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Réservoir de nettoyage acide à quartz intégré dans un processus personnalisé pour les applications semi-conductrices et photovoltaïques -TOQUARTZ®.
Conçu pour le nettoyage des tranches de semi-conducteurs, la gravure des cellules photovoltaïques et les applications de traitement chimique en laboratoire nécessitant une résistance exceptionnelle à la corrosion aux HF, HCl et HNO₃.
Caractéristiques du réservoir de nettoyage acide en quartz
Ultra haute pureté
La pureté de 99,99% SiO₂ garantit une contamination minimale dans les processus critiques des semi-conducteurs. Un contrôle de qualité strict et un traitement en salle blanche minimisent les impuretés et la contamination particulaire.
Résistance chimique
Résistance exceptionnelle à tous les acides, y compris HF, HCl, HNO₃, et autres produits chimiques agressifs utilisés dans le traitement humide des semi-conducteurs. Aucune dégradation du matériau, même après une exposition prolongée à des acides concentrés.
Stabilité thermique élevée
Plage de température de fonctionnement jusqu'à 1100°C pour une utilisation à long terme et 1300°C pour des applications à court terme. Le faible coefficient de dilatation thermique (5,5×10-⁷/°C) garantit la stabilité dimensionnelle lors des fluctuations de température.
Transparence optique
Excellente transparence optique (transmission ≥93%) permettant la surveillance du processus et l'inspection visuelle pendant le fonctionnement. Permet l'intégration avec des capteurs optiques pour le contrôle des processus et l'automatisation.
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Contamination ionique ultra-faible
libération
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Matrice SiO₂ stable sous l'effet de l'acide thermique
cyclisme
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Clarté visuelle pour
surveillance de la réaction in situ
Spécifications techniques du réservoir de nettoyage chimique en quartz
Spécifications techniques de la cuve de nettoyage acide en verre de quartz
| Propriété | Valeur |
| Composition du matériau | Quartz de haute pureté (≥99.99% SiO₂) |
| Densité | 2,2 g/cm³ |
| Résistance à la flexion | 48 MPa |
| Module d'élasticité | 72 GPa |
| Rapport de Poisson | 0.14-0.17 |
| Résistance à la compression | 1100 MPa |
| Résistance à la flexion | 67 MPa |
| Dureté Mohs | 5.5-6.5 |
| Température maximale de fonctionnement (à long terme) | 1100°C |
| Température maximale de fonctionnement (à court terme) | 1300°C |
| Conductivité thermique | 1,4 W/m-K |
| Indice de réfraction | 1.4585 |
| Coefficient de dilatation thermique | 5.5×10-⁷/°C |
| Résistance spécifique | 7×10⁷ Ω-cm |
| Transmission optique (1mm d'épaisseur, 280-780nm) | ≥93% |
Dimensions personnalisées du réservoir de nettoyage acide en quartz fondu
TOQUARTZ® peut répondre à des spécifications personnalisées en fonction des besoins du client. Contactez notre équipe d'ingénieurs pour obtenir des spécifications dimensionnelles détaillées et des options de dimensionnement personnalisées.
Résoudre les problèmes critiques avec le récipient de bain acide au quartz TOQUARTZ®.
Cuves de nettoyage acide au quartz pour le traitement des plaquettes de semi-conducteurs
Principaux avantages
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Très faible rejet de contaminants ioniques
Libération des réservoirs de quartz TOQUARTZ®. <0.1 ppb of Na⁺, K⁺, and Al³⁺ ions after 72h HF/HCl exposure at 80°C. -
Pas de dégradation de la surface en cas d'exposition à des acides mixtes
Rugosité de surface (Ra) reste <0.02μm after 96h in HNO₃/HF/HCl mixture at 100°C. -
Matrice SiO₂ stable sous cycle thermique-acide
Aucune propagation de microfissure n'a été observée après 50 cycles d'immersion dans l'acide à 100°C et de refroidissement à température ambiante.
Solution TOQUARTZ
Une usine japonaise de fabrication de plaquettes de 300 mm a signalé une contamination par des ions métalliques (>0,5 ppb Al³⁺) provenant de réservoirs de quartz locaux après 48 heures d'utilisation de HF/HCl, ce qui a entraîné une perte de rendement des plaquettes de 3,2%.
TOQUARTZ® a fourni des réservoirs de nettoyage à l'acide vérifiés. <0.1 ppb ion leaching (SGS test), reducing wafer surface contamination by 87% and restoring yield to 99.1% within 2 weeks of deployment.
Réservoir de nettoyage chimique en quartz pour le nettoyage et la texturation des cellules photovoltaïques
Principaux avantages
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Pas de piqûre de surface induite par l'acide après 100h
Les réservoirs TOQUARTZ® ne présentent aucune corrosion visible après 100h dans 10% HNO₃ à 90°C. -
Stable en cas de texturation alcaline à 85°C
Pas d'écaillage ou de décoloration du SiO₂ après 72h dans une solution NaOH/KOH à 85°C. -
Maintient la stabilité du pH des bains acides
Dérive du pH <0.2 over 48h in HF/HNO₃ mix, ensuring consistent etching rate.
Solution TOQUARTZ
Une ligne allemande de modules photovoltaïques utilisant des cuves en borosilicate a vu le pH du bain acide dériver de plus de 0,5 en 24 heures, ce qui a entraîné une texturation inégale et une baisse de l'efficacité des cellules 5%.
Les cuves en quartz TOQUARTZ® ont maintenu la stabilité du pH à ±0,2 pendant 48h, permettant une gravure uniforme et rétablissant l'efficacité moyenne des cellules de 18,3% à 19,1% sur 3 lots de production.
Bains acides au quartz pour les laboratoires de recherche
Principaux avantages
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Compatible avec la gamme 98% d'acides et de solvants de qualité laboratoire
Les réservoirs TOQUARTZ® ont été testés stables dans plus de 30 réactifs, y compris l'HF, l'eau régale et l'acide perchlorique. -
Clarté visuelle pour la surveillance des réactions in situ
La transmission de la lumière ≥93% (280-780nm) permet d'observer en temps réel les réactions colorimétriques. -
Pas de lixiviation détectable lors de l'analyse des traces
<0.05 ppb total leachables after 48h in 10% HCl at 60°C (ICP-MS verified).
Solution TOQUARTZ
Un laboratoire universitaire canadien effectuant des analyses de métaux à l'état de traces dans le HF/HCl a signalé une contamination de fond à l'Al >0,3 ppb dans des réservoirs en silice fondue.
Après le passage aux conteneurs TOQUARTZ® à bain d'acide, la ligne de base de l'ICP-MS est tombée à <0.05 ppb, enabling accurate detection of sub-ppb analytes and improving experimental reproducibility by 92%.
Services de personnalisation TOQUARTZ® pour le réservoir de nettoyage acide en verre quartzeux
Personnalisation de la conception
- Dimensions personnalisées avec tolérances de précision
- Configurations d'entrée et de sortie spécialisées pour l'intégration des processus
- Cloisons ou chambres internes pour le traitement en plusieurs étapes
- Bords ou coins renforcés pour une meilleure intégrité structurelle
- Épaisseur de paroi personnalisée en fonction des exigences thermiques ou structurelles
- Caractéristiques de montage intégrées pour la compatibilité des équipements
Spécifications des matériaux
- Quartz standard de haute pureté (99,99% SiO₂)
- Options de quartz opaque pour les applications sensibles à la lumière
- Traitements de surface pour une meilleure résistance chimique
- Surfaces polies avec précision pour les applications d'étanchéité critiques
- Bords polis au feu pour une meilleure résistance mécanique
- Certifications de matériaux sur mesure pour les industries réglementées
Processus de développement personnalisé
Analyse des besoins
- L'équipe technique de TOQUARTZ travaille avec vous pour comprendre vos exigences spécifiques en matière de processus, d'environnement chimique, de plages de température et de contraintes dimensionnelles.
Proposition de conception
- Nous élaborons des dessins techniques détaillés et des spécifications sur la base de vos exigences, en proposant souvent plusieurs options de conception à prendre en considération.
Développement de prototypes
- Pour les conceptions complexes ou nouvelles, nous pouvons produire des unités prototypes pour les tester et les valider dans votre environnement de traitement avant la production à grande échelle.
Production
- Les conceptions approuvées passent à la production avec un contrôle de qualité strict tout au long du processus de fabrication afin de garantir l'exactitude des dimensions et l'intégrité des matériaux.
Vérification de la qualité
- Chaque réservoir fini fait l'objet d'une inspection complète comprenant une vérification dimensionnelle, une inspection visuelle et des essais de matériaux conformément aux spécifications.
Directives d'utilisation de la cuve de nettoyage à l'acide de quartz
Manipulation et installation
- Manipuler avec précaution pour éviter les chocs ou les changements brusques de température qui pourraient provoquer des fractures.
- Installer sur des surfaces planes et stables en utilisant des supports appropriés pour répartir le poids uniformément.
- Lors du montage, utiliser des joints en PTFE ou compatibles pour éviter tout contact direct avec les surfaces métalliques.
- Prévoir un espace libre d'au moins 5 mm autour du réservoir pour permettre la dilatation thermique pendant les processus de chauffage.
- Pour les connexions d'entrée et de sortie, n'utiliser que des raccords compatibles conçus pour les composants en quartz.
Conditions de fonctionnement
- Ne pas dépasser la température maximale de fonctionnement de 1100°C pour une utilisation à long terme ou de 1300°C pour des applications à court terme.
- Maintenir les rampes de température à moins de 5°C/minute pour éviter les chocs thermiques.
- Pour les applications chauffées, veiller à ce que le chauffage soit réparti de manière uniforme afin d'éviter les tensions localisées.
- Lors de l'utilisation de solutions alcalines, il convient d'éviter tout contact avec des composés de potassium ou de sodium à des températures élevées, qui peuvent réduire considérablement les performances.
- Pour une intégrité optimale de l'étanchéité dans les applications de traitement humide, vérifiez que tous les points de connexion respectent les tolérances spécifiées.
Entretien et nettoyage
- Après utilisation, rincer abondamment à l'eau déminéralisée pour éliminer les résidus chimiques.
- Pour les contaminants persistants, utiliser des solvants appropriés suivis d'un nettoyage aux ultrasons dans de l'eau désionisée.
- Inspecter régulièrement pour détecter les microfissures ou la dégradation de la surface, en particulier au niveau des points de connexion des fluides.
- Stocker dans un environnement propre et exempt de poussière afin de préserver l'intégrité de la surface et d'éviter toute contamination.
- Pour un stockage à long terme, couvrir les ouvertures avec des matériaux propres en PTFE ou en polyéthylène.
Besoin d'une assistance technique pour les cuves de nettoyage à l'acide de quartz ?
Pourquoi s'associer à TOQUARTZ ?
Avantage de l'usine directe
En tant que fabricant direct, nous pouvons supprimer les nombreux liens intermédiaires.
Expertise en ingénierie
L'équipe technique guide les clients depuis la sélection des matériaux jusqu'à l'optimisation de la conception, en traduisant les spécifications en produits livrables.
Fabrication flexible
Traiter les commandes standard et personnalisées grâce à une expertise en matière de petites séries et à une rigueur de prototypage afin de respecter les délais urgents.
Qualité
Assurance
Validation en 3 étapes avant expédition :
1. la précision des dimensions,
2. pureté du matériau ,
3. les seuils de performance
Chaîne d'approvisionnement mondiale
Logistique mondiale fiable vers les centres industriels (DE/US/JP/KR en priorité) avec des étapes traçables.
Produits réimprégnés
En tant que fabricant spécialisé disposant de capacités d'usinage directes, TOQUARTZ fournit des solutions en quartz standard et personnalisées avec une assistance technique tout au long du processus de spécification et de mise en œuvre.
FAQ
Q : Quelle est la température maximale que peuvent supporter les cuves de nettoyage à l'acide de quartz ?
R : Les cuves de nettoyage acide au quartz TOQUARTZ® peuvent résister à des températures allant jusqu'à 1100°C pour un fonctionnement continu à long terme et jusqu'à 1350°C pour des applications à court terme. La stabilité thermique garantit la constance dimensionnelle même pendant les cycles thermiques, avec un faible coefficient de dilatation thermique de 5,5×10-⁷/°C.
Q : Quels types d'acides sont compatibles avec vos réservoirs en quartz ?
R : Les cuves de nettoyage d'acide en quartz TOQUARTZ® sont compatibles avec pratiquement tous les acides utilisés dans la fabrication des semi-conducteurs et des cellules photovoltaïques, notamment l'acide fluorhydrique (HF), l'acide chlorhydrique (HCl), l'acide nitrique (HNO₃), l'acide sulfurique (H₂SO₄), l'acide phosphorique (H₃PO₄) et divers mélanges d'acides. Ils conservent leur intégrité structurelle et leur pureté même après une exposition prolongée à des acides concentrés à des températures élevées.
Q : Quel est le niveau de pureté du quartz utilisé dans vos cuves de nettoyage à l'acide ?
R : Les cuves de nettoyage acide en quartz standard TOQUARTZ® sont fabriquées à partir de quartz de haute pureté contenant ≥99,99% SiO₂. Ce niveau de pureté garantit une contamination minimale dans les processus critiques des semi-conducteurs et du photovoltaïque. Le matériau présente des niveaux exceptionnellement bas d'impuretés alcalines et métalliques, ce qui le rend idéal pour les applications où le contrôle de la contamination est crucial pour le rendement et la performance du processus.
Q : Comment dois-je nettoyer et entretenir les cuves de nettoyage à l'acide de quartz pour maximiser leur durée de vie ?
R : Pour maximiser la durée de vie des cuves de nettoyage acide en quartz : 1) Rincer soigneusement à l'eau déminéralisée après chaque utilisation, 2) Pour les résidus tenaces, utiliser des solvants appropriés suivis d'un nettoyage par ultrasons, 3) Éviter les chocs thermiques en maintenant des vitesses de rampe inférieures à 5°C/minute, 4) Manipuler avec précaution pour éviter les chocs mécaniques, 5) Stocker dans des environnements propres en couvrant les orifices, et 6) Inspecter régulièrement pour détecter les microfissures ou la dégradation de la surface. Avec un entretien adéquat, les réservoirs en quartz peuvent fournir des années de service fiable dans les environnements exigeants des semi-conducteurs.
Q : Comment les cuves de nettoyage acide en quartz se comparent-elles aux cuves en PTFE ou en PFA pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs ?
R : Alors que le PTFE et le PFA offrent une excellente résistance chimique, les cuves de nettoyage acide en quartz présentent plusieurs avantages distincts pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs : 1) une résistance supérieure à la température (jusqu'à 1100°C contre ~260°C pour les fluoropolymères), 2) une meilleure stabilité dimensionnelle lors des cycles thermiques, 3) une plus grande rigidité pour maintenir des géométries précises, 4) une plus grande transparence pour la surveillance du processus, et 5) une génération de particules et un dégazage plus faibles. Le quartz est particulièrement avantageux pour les procédés acides à haute température utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs avancés.
Contactez notre équipe d'ingénieurs pour une consultation technique et un devis. Nous vous aiderons à sélectionner les spécifications optimales pour votre application.
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