Quarzglasanwendungen in kritischen Branchen
Quarz-Laborgeräte
TOQUARTZ®-Laborgeräte aus Quarzglas setzen den Standard für Langlebigkeit und Spitzenleistung in extremen wissenschaftlichen und industriellen Umgebungen. Sie sind auf Präzision ausgelegt und gewährleisten unübertroffene Zuverlässigkeit, wo herkömmliche Materialien unter Druck schwächeln.
- Wärmebeständigkeit bis 1600°C minimiert die Ausdehnung bei kritischen Wärmeprozessen.
- Chemische Inertheit gegenüber aggressiven Lösungsmitteln bewahrt die Integrität des Experiments unter Stress.
- Volle spektrale Transparenz von UV bis IR erhöht die Genauigkeit bei der optischen Analyse.
Optisches Quarzglas
TOQUARTZ® Optisches Quarzglas bietet kompromisslose Leistung für kritische UV- und IR-Anwendungen, die Präzision und Langlebigkeit erfordern. Es wurde für extreme Umgebungen entwickelt und kombiniert hochreines Quarzglas mit fortschrittlichen optischen Eigenschaften, die für wissenschaftliche und industrielle Systeme unerlässlich sind.
- Maximiert die UV-C-Durchlässigkeit (95%+ bei 254nm) für die Wirksamkeit der Sterilisation
- Autofluoreszenz nahe Null garantiert spektroskopische Genauigkeit bei längerer Exposition
- Behält die IR-Transparenz bei 1200°C bei mit minimaler thermischer Verschiebung
Photovoltaisches Quarzglas
TOQUARTZ®-Quarzglaskomponenten definieren die Zuverlässigkeit in extremen thermischen und korrosiven Solarproduktionsumgebungen neu. Diese Lösungen wurden für die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie entwickelt und bieten kompromisslose Materialstabilität bei den anspruchsvollsten Grenzwerten der Branche.
- 1600°C thermische Belastbarkeit gewährleistet eine stabile Leistung des Diffusionsofens
- 99,995% SiO₂-Reinheit verhindert die Kontamination mit Dotierstoffen bei der Zellproduktion
- Fluor-Gas-Beständigkeit eliminiert die Verschlechterung bei Ätzprozessen
Photovoltaisches Quarzglas
TOQUARTZ®-Quarzglaskomponenten definieren die Zuverlässigkeit in extremen thermischen und korrosiven Solarproduktionsumgebungen neu. Diese Lösungen wurden für die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie entwickelt und bieten kompromisslose Materialstabilität bei den anspruchsvollsten Grenzwerten der Branche.
- 1600°C thermische Belastbarkeit gewährleistet eine stabile Leistung des Diffusionsofens
- 99,995% SiO₂-Reinheit verhindert die Kontamination mit Dotierstoffen bei der Zellproduktion
- Fluor-Gas-Beständigkeit eliminiert die Verschlechterung bei Ätzprozessen
Halbleiter Quarzglas
TOQUARTZ®-Halbleiter-Quarzglaskomponenten sind präzisionsgefertigt, um den strengen Anforderungen der fortschrittlichen Wafer-Fertigung und thermischen Hochtemperaturprozessen standzuhalten. Sie werden aus hochreinen Materialien hergestellt und gewährleisten eine kontaminationsfreie Leistung während des gesamten Lebenszyklus der Halbleiterherstellung.
- 1500°C thermische Stabilität bewahrt die Maßhaltigkeit bei schneller thermischer Verarbeitung
- >99,99% SiO₂-Reinheit eliminiert ionische Kontaminationsquellen in Diffusionsschritten
- HF-Gas- und Säurebeständigkeit bewahrt die strukturelle Integrität in Ätzkammern
Industrielles Quarzglas
TOQUARTZ® industrielle Quarzglaskomponenten bieten kompromisslose Leistung unter extremer thermischer, chemischer und mechanischer Belastung in kritischen Bereichen. Entwickelt mit >99,995% SiO₂-ReinheitUnsere Lösungen verhindern Verunreinigungen und ermöglichen gleichzeitig Präzision in anspruchsvollen industriellen Prozessen.
- 1600°C thermische Stabilität bewahrt die Integrität in der Umgebung von Vakuumöfen
- Säure/Chlorgas-Beständigkeit verhindert die Zersetzung in chemischen Reaktoren
- Anpassbar durch CNC-/Laserbearbeitung erfüllt exakte Maßtoleranzen
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