핵심 산업 전반의 석영 유리 응용 분야
쿼츠 랩웨어
TOQUARTZ® 석영 실험실 장비는 극한의 과학 및 산업 환경에서 내구성과 우수성의 표준을 제시합니다. 정밀도를 위해 설계된 이 제품은 기존 소재가 압력에 흔들리는 상황에서 탁월한 신뢰성을 보장합니다.
- 최대 1600°C의 내열성 중요한 열 공정에서 팽창을 최소화합니다.
- 공격적인 용매에 대한 화학적 비활성성 스트레스 상황에서 실험 무결성을 보존합니다.
- 완전한 UV-IR 스펙트럼 투명성 는 광학 분석의 정확성을 향상시킵니다.
광학 석영 유리
TOQUARTZ® 광학 석영 유리는 정밀도와 내구성이 요구되는 중요한 UV 및 적외선 애플리케이션에 탁월한 성능을 제공합니다. 극한 환경을 위해 설계된 이 제품은 고순도 용융 실리카에 과학 및 산업 시스템에 필수적인 고급 광학 특성을 결합한 제품입니다.
- UV-C 투과율 극대화(254nm에서 95%+) 살균 효능을 위해
- 거의 제로에 가까운 자동 형광으로 분광 정확도 보장 장시간 노출 시
- 1200°C에서 IR 투명성 유지 최소한의 열 이동으로
태양광 석영 유리
TOQUARTZ® 석영 유리 부품은 극한의 열 및 부식성 태양광 제조 환경에서의 신뢰성을 재정의합니다. 반도체 및 태양광 산업의 우수성을 위해 설계된 이 솔루션은 업계에서 가장 까다로운 기준치에서도 타협하지 않는 재료 안정성을 제공합니다.
- 1600°C 열 복원력 안정적인 확산로 성능 보장
- 99.995% SiO₂ 순도 세포 생산 시 도펀트 오염을 방지합니다.
- 불소 가스 저항 에칭 공정의 성능 저하 제거
태양광 석영 유리
TOQUARTZ® 석영 유리 부품은 극한의 열 및 부식성 태양광 제조 환경에서의 신뢰성을 재정의합니다. 반도체 및 태양광 산업의 우수성을 위해 설계된 이 솔루션은 업계에서 가장 까다로운 기준치에서도 타협하지 않는 재료 안정성을 제공합니다.
- 1600°C 열 복원력 안정적인 확산로 성능 보장
- 99.995% SiO₂ 순도 세포 생산 시 도펀트 오염을 방지합니다.
- 불소 가스 저항 에칭 공정의 성능 저하 제거
반도체 석영 유리
TOQUARTZ® 반도체 석영 유리 부품은 첨단 웨이퍼 제조 및 고온 열 공정의 엄격한 요구 사항을 견딜 수 있도록 정밀하게 설계되었습니다. 초순수 재료로 설계되어 반도체 제조 수명 주기 내내 오염 없는 성능을 보장합니다.
- 1500°C 열 안정성 빠른 열처리 중 치수 무결성 유지
- >99.99% SiO₂ 순도 확산 단계에서 이온 오염원을 제거합니다.
- HF 가스 및 내산성 에칭 챔버의 구조적 무결성을 보존합니다.
산업용 석영 유리
TOQUARTZ® 산업용 석영 유리 부품은 중요한 부문에서 극한의 열, 화학 및 기계적 스트레스에서도 탁월한 성능을 발휘합니다. 다음과 함께 설계 >99.995% SiO₂ 순도의 솔루션은 오염을 방지하는 동시에 위험도가 높은 산업 공정에서 정밀성을 구현합니다.
- 1600°C 열 안정성 진공로 환경에서 무결성 유지
- 내산성/내염소성 가스 저항성 화학 반응기의 성능 저하를 방지합니다.
- CNC/레이저 가공을 통한 사용자 지정 가능 정확한 치수 공차 충족
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