- Главная
- /
- Приложения
- /
- Полупроводниковое кварцевое стекло
- /
- Кварцевая кислота с индивидуальной обработкой...
Изготовленный на заказ резервуар для кварцевой кислоты для полупроводниковых и фотоэлектрических систем -TOQUARTZ®
Разработано для очистки полупроводниковых пластин, травления фотоэлектрических элементов и лабораторных химических процессов, требующих исключительной коррозионной стойкости к HF, HCl и HNO₃.
Особенности кварцевого резервуара для очистки кислот
Ультравысокая чистота
Чистота 99,99% SiO₂ обеспечивает минимальное загрязнение в критически важных полупроводниковых процессах. Строгий контроль качества и обработка в чистых помещениях сводят к минимуму содержание примесей и твердых частиц.
Химическая стойкость
Исключительная стойкость ко всем кислотам, включая HF, HCl, HNO₃, и другим агрессивным химикатам, используемым при влажной обработке полупроводников. Материал не разрушается даже после длительного воздействия концентрированных кислот.
Высокая термическая стабильность
Диапазон рабочих температур до 1100°C для длительного использования и 1300°C для кратковременного применения. Низкий коэффициент теплового расширения (5,5×10-⁷/°C) обеспечивает стабильность размеров при колебаниях температуры.
Оптическая прозрачность
Отличная оптическая прозрачность (пропускание ≥93%) позволяет осуществлять мониторинг процесса и визуальный контроль во время работы. Обеспечивает интеграцию с оптическими датчиками для контроля и автоматизации процессов.
-
Сверхнизкий уровень ионного загрязнения
выпуск
-
Стабильная матрица SiO₂ при термокислотном воздействии
велоспорт
-
Визуальная ясность для
мониторинг реакций in-situ
Технические характеристики резервуара для кварцевой химической очистки
Технические характеристики резервуара для кислотной очистки кварцевого стекла
| Недвижимость | Значение |
| Состав материала | Кварц высокой чистоты (≥99,99% SiO₂) |
| Плотность | 2,2 г/см³ |
| Прочность на изгиб | 48 МПа |
| Модуль упругости | 72 ГПа |
| Коэффициент Пуассона | 0.14-0.17 |
| Прочность на сжатие | 1100 МПа |
| Прочность на изгиб | 67 МПа |
| Твердость по Моосу | 5.5-6.5 |
| Максимальная рабочая температура (длительная) | 1100°C |
| Максимальная рабочая температура (кратковременная) | 1300°C |
| Теплопроводность | 1,4 Вт/м-К |
| Показатель преломления | 1.4585 |
| Коэффициент теплового расширения | 5.5×10-⁷/°C |
| Специфическая устойчивость | 7×10⁷ Ω-см |
| Оптическая передача (толщина 1 мм, 280-780 нм) | ≥93% |
Индивидуальные размеры резервуара для очистки плавленого кварца от кислоты
Компания TOQUARTZ® может разработать индивидуальные спецификации в соответствии с требованиями заказчика. Свяжитесь с нашей командой инженеров для получения подробной информации о размерах и вариантах нестандартных размеров.
Решение критических задач с помощью контейнера для кварцевой кислотной ванны TOQUARTZ®
Емкости для очистки кварцевой кислотой для обработки полупроводниковых пластин
Ключевые преимущества
-
Сверхнизкое выделение ионных загрязнений
Выпуск кварцевых резервуаров TOQUARTZ® <0.1 ppb of Na⁺, K⁺, and Al³⁺ ions after 72h HF/HCl exposure at 80°C. -
Отсутствие разрушения поверхности при смешанном воздействии кислот
Шероховатость поверхности (Ra) остается <0.02μm after 96h in HNO₃/HF/HCl mixture at 100°C. -
Стабильная матрица SiO₂ при термокислотном циклировании
После 50 циклов погружения в кислоту при температуре 100°C и охлаждения в окружающей среде распространения микротрещин не наблюдалось.
раствор TOQUARTZ®
Японская фабрика по производству 300-мм пластин сообщила о загрязнении ионами металлов (>0,5 ppb Al³⁺) местных кварцевых резервуаров после 48-часового использования HF/HCl, что привело к потере выхода 3,2% пластин.
TOQUARTZ® поставляет резервуары для кислотной очистки с проверенными <0.1 ppb ion leaching (SGS test), reducing wafer surface contamination by 87% and restoring yield to 99.1% within 2 weeks of deployment.
Емкость для кварцевой химической очистки для очистки и текстурирования фотоэлементов
Ключевые преимущества
-
Отсутствие питтинга поверхности, вызванного кислотой, через 100 часов
Резервуары TOQUARTZ® показывают нулевую видимую коррозию после 100 часов в 10% HNO₃ при 90°C. -
Стабильность при щелочном текстурировании при 85°C
Отсутствие отслаивания или обесцвечивания SiO₂ после 72 часов в растворе NaOH/KOH при 85°C. -
Поддерживает стабильность pH кислотной ванны
Дрейф рН <0.2 over 48h in HF/HNO₃ mix, ensuring consistent etching rate.
раствор TOQUARTZ®
На немецкой линии по производству фотоэлектрических модулей, использующей боросиликатные резервуары, наблюдалось смещение pH кислотной ванны на >0,5 за 24 часа, что привело к неравномерному текстурированию и падению эффективности ячеек на 5%.
Кварцевые резервуары TOQUARTZ® поддерживали стабильность pH в пределах ±0,2 в течение 48 часов, обеспечивая равномерное травление и восстанавливая среднюю эффективность клеток с 18,3% до 19,1% в 3 производственных партиях.
Контейнеры для кварцевых кислотных ванн для исследовательских лабораторий
Ключевые преимущества
-
Совместим с 98% лабораторными кислотами и растворителями
Резервуары TOQUARTZ® испытали стабильность в 30+ реагентах, включая HF, акварегуляр и перхлорную кислоту. -
Визуальная наглядность для мониторинга реакций in-situ
≥93% светопропускание (280-780 нм) позволяет наблюдать за колориметрическими реакциями в режиме реального времени. -
Не обнаруживается выщелачивание при следовом анализе
<0.05 ppb total leachables after 48h in 10% HCl at 60°C (ICP-MS verified).
раствор TOQUARTZ®
Канадская университетская лаборатория, проводившая анализ следов металлов в HF/HCl, сообщила о фоновом загрязнении Al >0,3 ppb из резервуаров с плавленым кварцем.
После перехода на контейнеры для кислотных ванн TOQUARTZ® исходный уровень ИСП-МС снизился до <0.05 ppb, enabling accurate detection of sub-ppb analytes and improving experimental reproducibility by 92%.
Услуги TOQUARTZ® по индивидуальному заказу для резервуара для кислотной очистки кварцевого стекла
Персонализация дизайна
- Нестандартные размеры с прецизионными допусками
- Специализированные конфигурации входов/выходов для интеграции процессов
- Внутренние перегородки или камеры для многоступенчатой обработки
- Усиленные края или углы для повышения структурной целостности
- Нестандартная толщина стенок в зависимости от тепловых или конструктивных требований
- Встроенные элементы крепления для совместимости с оборудованием
Характеристики материала
- Стандартный кварц высокой чистоты (99,99% SiO₂)
- Непрозрачные кварцевые опции для светочувствительных приложений
- Обработка поверхности для повышения химической стойкости
- Прецизионно отполированные поверхности для критически важных уплотнений
- Огнеупорная полировка краев для повышения механической прочности
- Индивидуальные сертификаты материалов для регулируемых отраслей промышленности
Процесс разработки под заказ
Анализ требований
- Техническая команда TOQUARTZ работает с вами, чтобы понять ваши специфические технологические требования, химическую среду, температурные диапазоны и размерные ограничения.
Предложение по дизайну
- Мы разрабатываем подробные технические чертежи и спецификации на основе ваших требований, часто предоставляя на рассмотрение несколько вариантов дизайна.
Разработка прототипа
- Для сложных или новых конструкций мы можем изготовить опытные образцы для тестирования и проверки в вашей технологической среде перед полномасштабным производством.
Производство
- Утвержденные проекты переходят в производство со строгим контролем качества на протяжении всего процесса изготовления для обеспечения точности размеров и целостности материала.
Проверка качества
- Каждый готовый резервуар проходит всестороннюю проверку, включая проверку размеров, визуальный осмотр и тестирование материалов в соответствии с требованиями спецификаций.
Рекомендации по использованию резервуара для очистки кварцевой кислотой
Обработка и установка
- Обращайтесь с ними осторожно, чтобы избежать ударов или резких перепадов температуры, которые могут привести к переломам.
- Устанавливайте на ровной, устойчивой поверхности, используя соответствующие опорные приспособления для равномерного распределения веса.
- При монтаже используйте прокладки из тефлона или совместимого материала для предотвращения прямого контакта с металлическими поверхностями.
- Оставьте не менее 5 мм свободного пространства вокруг резервуара для теплового расширения при нагревании.
- Для входных/выходных соединений используйте только совместимые фитинги, предназначенные для кварцевых компонентов.
Условия эксплуатации
- Не превышайте максимальную рабочую температуру 1100°C для длительного использования или 1300°C для кратковременного применения.
- Во избежание теплового удара поддерживайте скорость изменения температуры менее 5°C в минуту.
- При работе с нагревом обеспечьте равномерное распределение нагрева, чтобы избежать локальных напряжений.
- При использовании с щелочными растворами избегайте контакта с соединениями калия или натрия при высоких температурах, которые могут значительно снизить эффективность работы.
- Для обеспечения оптимальной целостности уплотнения при влажной обработке убедитесь, что все точки соединения соответствуют указанным допускам.
Обслуживание и очистка
- После использования тщательно промойте деионизированной водой, чтобы удалить остатки химикатов.
- Для стойких загрязнений используйте соответствующие растворители с последующей ультразвуковой очисткой в деионизированной воде.
- Регулярно проверяйте на наличие микротрещин или разрушения поверхности, особенно в местах соединения с жидкостью.
- Храните в чистых, непыльных помещениях, чтобы сохранить целостность поверхности и предотвратить загрязнение.
- При длительном хранении закрывайте отверстия чистыми материалами из ПТФЭ или полиэтилена.
Нужна техническая помощь по резервуарам для кварцевой очистки?
Почему стоит сотрудничать с TOQUARTZ
Прямое преимущество фабрики
Являясь прямым производителем, мы можем отказаться от многочисленных промежуточных звеньев.
Инженерная экспертиза
Техническая команда сопровождает клиентов от выбора материала до оптимизации конструкции, воплощая спецификации в готовые изделия.
Гибкое производство
Выполнение стандартных и индивидуальных заказов с помощью опыта работы с мелкими партиями и тщательного создания прототипов для соблюдения сроков.
Качество
Обеспечение
Трехступенчатая проверка перед отгрузкой:
1. точность размеров,
2. чистота материала ,
3. пороговые значения производительности
Глобальная цепочка поставок
Надежная глобальная логистика в промышленные центры (приоритет DE/US/JP/KR) с отслеживаемыми сроками.
Восстановленные продукты
Как специализированный производитель с прямыми заводскими возможностями, TOQUARTZ предлагает как стандартные, так и индивидуальные кварцевые решения с инженерной поддержкой на протяжении всего процесса спецификации и реализации.
ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Вопрос: Какую максимальную температуру могут выдерживать емкости для очистки кварцевой кислоты?
О: Емкости для очистки кварцевой кислотой TOQUARTZ® выдерживают температуру до 1100°C при длительной непрерывной работе и до 1350°C при кратковременном применении. Термическая стабильность обеспечивает постоянство размеров даже при термоциклировании, благодаря низкому коэффициенту теплового расширения 5,5×10-⁷/°C.
В: Какие типы кислот совместимы с вашими кварцевыми резервуарами?
О: Кварцевые емкости для очистки кислот TOQUARTZ® совместимы практически со всеми кислотами, используемыми в производстве полупроводников и фотоэлектрических приборов, включая плавиковую кислоту (HF), соляную кислоту (HCl), азотную кислоту (HNO₃), серную кислоту (H₂SO₄), фосфорную кислоту (H₃PO₄) и различные смеси кислот. Они сохраняют свою структурную целостность и чистоту даже после длительного воздействия концентрированных кислот при повышенных температурах.
Вопрос: Какова степень чистоты кварцевого материала, используемого в ваших резервуарах для очистки кислот?
О: Стандартные емкости TOQUARTZ® для очистки кварцевой кислоты производятся из высокочистого кварца, содержащего ≥99,99% SiO₂. Такой уровень чистоты обеспечивает минимальное загрязнение в критически важных полупроводниковых и фотоэлектрических процессах. В материале исключительно низкий уровень щелочных и металлических примесей, что делает его идеальным для применения в тех случаях, когда контроль загрязнения имеет решающее значение для выхода и производительности процесса.
Вопрос: Как следует чистить и обслуживать резервуары для очистки кварцевой кислоты, чтобы максимально продлить срок службы?
О: Чтобы максимально продлить срок службы кварцевых емкостей для кислотной очистки: 1) Тщательно промывайте их водой DI после каждого использования; 2) Для удаления стойких остатков используйте соответствующие растворители с последующей ультразвуковой очисткой; 3) Избегайте теплового шока, поддерживая скорость изменения температуры ниже 5°C в минуту; 4) Обращайтесь с ними осторожно, чтобы избежать механического воздействия; 5) Храните в чистых помещениях с закрытыми портами; 6) Регулярно проверяйте на наличие микротрещин или деградацию поверхности. При надлежащем уходе кварцевые резервуары могут обеспечить многолетнюю надежную работу в сложных условиях полупроводниковой промышленности.
Вопрос: Чем кварцевые емкости для кислотной очистки отличаются от емкостей из PTFE или PFA для полупроводников?
О: Хотя PTFE и PFA обладают превосходной химической стойкостью, кварцевые емкости для кислотной очистки имеют ряд неоспоримых преимуществ для полупроводниковых приложений: 1) более высокая термостойкость (до 1100°C против ~260°C для фторполимеров), 2) лучшая стабильность размеров при термоциклировании, 3) более высокая жесткость для поддержания точной геометрии, 4) большая прозрачность для мониторинга процесса и 5) меньшее образование частиц и газовыделение. Кварц особенно выгоден для высокотемпературных кислотных процессов, характерных для современного производства полупроводников.
Свяжитесь с нашей командой инженеров для получения технической консультации и определения цены. Мы поможем вам выбрать оптимальные характеристики для ваших требований.
Русский 
English 
العربية 
Deutsch 
Español 
한국어 
Français 
Português do Brasil 
Türkçe