OH 함량 변화는 실험실 석영 플레이트 성능에 어떤 영향을 미칩니까?

석영판 오 함량 변화 실험실에서는 실험 중 재료가 작동하는 방식에 큰 차이를 만들 수 있습니다. 석영 유리 내부의 수산기 수준 변화는 적외선 투과율, 빠른 가열 또는 냉각에도 견디는 능력, 고온에서의 장기적인 안정성에 영향을 미칩니다. 이러한 특성 간의 균형이 실험실 결과에 영향을 미치므로 과학자들은 각 작업에 적합한 석영 유리를 선택해야 합니다.

주요 내용

• 석영판의 성능은 수산기(OH) 함량에 따라 달라집니다. 낮은 OH 함량(10~30ppm)은 적외선 애플리케이션에 가장 적합하며, 높은 OH 함량(150~200ppm)은 열충격 저항성을 향상시킵니다.

• FTIR을 사용하여 OH 함량을 정확하게 측정하세요. 이 방법은 석영 유리의 수산기 수준에 따라 적외선 투과 손실이 얼마나 발생할지 예측하는 데 도움이 됩니다.

• 용도에 따라 석영 유리를 선택하세요. 근적외선 분광학의 경우, 높은 투과율을 보장하기 위해 낮은 OH 유리를 선택하세요. 열 순환의 경우 균열을 방지하기 위해 OH 함량이 높은 유리를 선택하세요.

• 석영 유리를 모니터링하여 석영 유리의 조기 석회화 징후를 확인합니다. 정기적인 검사를 통해 고장으로 이어지기 전에 문제를 발견하여 재료의 수명을 연장할 수 있습니다.

• OH 함량별로 석영 유리 재고를 세분화합니다. 이 전략은 고장을 줄이고 각 애플리케이션이 최적의 성능을 위해 가장 적합한 재료를 사용하도록 보장합니다.

OH 함량 변화(10-30ppm vs 150-200ppm)가 2500nm 이상의 적외선 투과에 어떤 영향을 미치나요?

석영판 오 함량 변화 실험실은 석영 유리가 적외선을 투과하는 방식을 극적으로 변화시킬 수 있습니다. 유리 내부의 수산기의 양에 따라 2500nm 이상의 적외선을 차단할지 또는 허용할지가 결정됩니다. 과학자들은 각 실험에 적합한 재료를 선택하기 위해 이러한 차이를 이해해야 합니다.

OH 흡수 대역 메커니즘 이해: 2730nm 기본 및 배음

수산기 내부의 석영 유리는 특정 파장에서 적외선을 흡수합니다. 가장 강한 흡수는 2730nm에서 발생하는데, 여기서 O-H 결합이 진동하여 투과를 차단합니다. 배음과 조합 대역도 1500~4000nm 사이에서 나타나 근적외선 범위의 선명도를 더욱 떨어뜨립니다.

수산기 함량이 높을수록 이러한 흡수 대역의 강도가 증가합니다. 유리에 150~200ppm의 수산기가 포함되어 있으면 2730nm에서의 투과율이 15% 이하로 떨어집니다. 반면 수산기 함량이 10~30ppm에 불과한 석영 유리는 동일한 파장에서 92% 이상의 투과율을 유지하므로 적외선 애플리케이션에 이상적입니다.

이 표는 2730nm에서의 흡수 피크와 하이드 록실 함량이 석영 유리의 특성에 직접적으로 어떤 영향을 미치는지 보여줍니다.

FTIR을 통한 OH 함량 측정은 전송 손실과 어떤 상관관계가 있을까요?

과학자들은 FTIR(푸리에 변환 적외선 분광법)를 사용하여 석영 유리의 하이드 록실 함량을 측정합니다. 이 기기는 2730nm에서 흡수 피크를 감지하고 농도를 백만 분의 1로 계산합니다. ISO 11455는 이 측정에 대한 표준을 설정하여 실험실에서 신뢰할 수 있는 결과를 보장합니다.

FTIR 수치가 더 높은 하이드록실 함량을 보여줄수록 전송 손실이 증가합니다. 예를 들어 석영 유리판 200ppm의 수산기를 가진 플레이트는 3000nm에서 최대 85%의 적외선 투과율을 잃게 됩니다. 이러한 직접적인 관계는 연구자들이 실험에서 각 플레이트가 어떻게 작동할지 예측하는 데 도움이 됩니다.

요약:

• FTIR은 2730nm 흡수 피크를 사용하여 하이드록실 함량을 측정합니다.

• 수치가 높을수록 전송 손실이 커집니다.

• ISO 11455는 석영 유리의 모든 용도에 대해 일관된 측정을 보장합니다.

근적외선 사양이 필요한 근적외선 응용 분야

석영 유리의 많은 응용 분야는 높은 적외선 투과율에 의존합니다. 근적외선 분광학, 열화상 및 광섬유 통신에는 모두 수산기 함량이 낮은 플레이트가 필요합니다. 이러한 분야에서는 저 OH 석영 유리만이 제공할 수 있는 2500nm 이상의 선명한 신호에 의존합니다.

연구자들은 이러한 작업을 위해 석영 유리를 선택할 때 수산화물 함량이 30ppm 미만인 소재를 선택합니다. 이러한 선택은 임계 파장에서 90% 이상의 전송을 보장하여 정확한 측정과 신뢰할 수 있는 데이터를 지원합니다. 높은 OH 유리를 사용하는 실험실은 신호 강도와 정밀도를 잃을 위험이 있습니다.

핵심 포인트:

• 근적외선 분광 및 열화상에는 저-OH 석영 유리가 필요합니다.

• 하이드록실 함량이 30ppm 미만이면 높은 전송률을 보장합니다.

• 올바른 자료를 선택하면 성공적인 실험을 할 수 있습니다.

OH 함량 변화가 급속 가열/냉각 시 열충격 저항에 어떤 영향을 미치나요?

석영 유리의 열충격 저항성은 재료가 급격한 온도 변화에 어떻게 반응하는지에 따라 달라집니다. 유리 네트워크 내부에 수산기가 존재하면 갑작스러운 가열 또는 냉각을 처리하는 능력이 달라집니다. 이러한 효과를 이해하면 실험실에서 까다로운 열 순환 응용 분야에 적합한 석영판 오 함량 변이 실험실을 선택하는 데 도움이 됩니다.

수산기는 어떻게 점성 스트레스 이완 메커니즘을 가능하게 하는가?

수산기는 석영 유리의 내부 구조를 변화시켜 유리의 특성에 중요한 역할을 합니다. 더 많은 수산기가 유리에 들어가면 가교 역할을 하지 않는 산소 원자의 수가 증가하여 네트워크가 파괴되고 유리 전이 온도와 점도가 모두 낮아집니다. 이러한 해중합을 통해 유리는 급격한 온도 변화 시 응력을 더 쉽게 완화하여 균열이 발생할 가능성이 줄어듭니다.

수산기 수준이 높을수록 유리 네트워크는 더 유연해집니다. 점도가 낮다는 것은 갑작스러운 가열이나 냉각에 노출되었을 때 유리가 약간 흐르면서 파괴점에 도달하기 전에 축적된 응력을 완화할 수 있다는 것을 의미합니다. 점성 응력 완화라고 하는 이 과정은 열 순환이 빈번한 실험실 환경에서 특히 중요합니다.

요약:

• 수산화기는 비결합 산소를 증가시킵니다.를 사용하여 유리 네트워크를 분리합니다.

• 점도가 낮고 유리 전이 온도가 낮아 응력을 완화할 수 있습니다.

• 점성 응력 완화는 급격한 온도 변화 시 균열을 방지하는 데 도움이 됩니다.

OH 매개 네트워크 이동성을 활성화하는 온도 범위

점성 흐름을 통해 응력을 완화하는 석영 유리의 능력은 온도에 따라 달라집니다. 온도가 유리 전이점 이상으로 올라가면 네트워크는 수산기가 유리가 스스로 재배열할 수 있도록 충분히 움직일 수 있게 됩니다. 이러한 이동성은 일반적으로 800°C에서 1200°C 사이에서 시작되며, 이 온도에서 수산기의 영향이 가장 두드러지게 나타납니다.

이 범위에서 수산기 함량이 높은 유리는 수산기 함량이 낮은 유리에 비해 점도가 훨씬 낮습니다. 네트워크 이동성이 증가한다는 것은 유리가 고장 없이 더 빠른 가열 및 냉각 속도를 처리할 수 있다는 것을 의미합니다. 실험실에서는 석영 유리가 급격한 온도 변화에 얼마나 잘 견디는지를 측정하는 ASTM C1525와 같은 표준을 사용하여 이러한 특성을 테스트하는 경우가 많습니다.

핵심 포인트:

• 네트워크 이동성이 800°C 이상으로 증가합니다.

• 수산기는 이 범위에서 가장 큰 영향을 미칩니다.

• 적절한 선택은 열충격 장애를 방지합니다.

열충격 성능 비교: 30ppm 대 150ppm 대 200ppm OH

열충격 성능은 히드록실 함량에 따라 크게 달라집니다. 하이드록실 함량이 30ppm 미만인 플레이트는 열충격에 강한 저항성을 보이지만, 함량이 150ppm 또는 200ppm으로 증가하면 균열의 위험이 증가합니다. 하이드록실 함량이 높을수록 유리의 안정성이 낮아져 급격한 온도 변화에 더 취약해집니다.

실험실 테스트에 따르면 수산화물 함량이 30ppm인 플레이트는 더 높은 담금질 속도를 견딜 수 있는 반면, 150ppm 또는 200ppm의 플레이트는 동일한 조건에서 더 자주 균열이 발생하는 것으로 나타났습니다. 이러한 차이는 각 실험의 특정 요구 사항에 적합한 석영 유리를 맞추는 것이 중요하다는 점을 강조합니다.

요약:

• 30ppm 미만: 최고의 열충격 저항성.

• 150-200ppm: 균열 위험 증가.

• 애플리케이션 요구 사항에 따라 하이드 록실 함량을 선택합니다.

10~200ppm의 OH 함량 변화는 높은 작동 온도에서 탈석화에 어떤 영향을 미칩니까?

탈석화는 고온의 실험실 환경에서 석영 유리의 장기적인 성능을 제한합니다. 탈석화의 속도와 시작은 유리 네트워크에 존재하는 수산기의 양에 따라 달라집니다. 다양한 OH 함량 체계가 이 과정에 어떤 영향을 미치는지 이해하면 실험실에서 각 용도에 적합한 재료를 선택하는 데 도움이 됩니다.

크리스토발라이트 핵 생성 메커니즘은 OH 함량으로 활성화됩니다.

석영 유리의 크리스토발라이트 핵 형성은 재료가 고온에 장시간 노출될 때 시작됩니다. 수산기의 존재는 유리 네트워크의 작동 방식을 변화시켜 결정 영역이 더 쉽게 형성되도록 합니다. 열처리 초기 몇 시간 동안 유리 내부에 새로운 기포가 생성되고 시간이 지남에 따라 이러한 기포가 성장하고 합쳐지면서 탈석화 과정이 가속화됩니다.

수산기 함량이 높을수록 석영 유리의 점도가 낮아져 원자가 더 자유롭게 움직일 수 있습니다. 이러한 이동성 증가는 특히 온도가 1100°C를 초과하는 실험실 환경에서 크리스토발라이트 결정의 성장과 응집에 도움이 됩니다. 불순물 함량과 제조 시 사용되는 도가니의 유형도 핵 형성 및 성장 속도에 영향을 미칠 수 있습니다.

요약:

• 수산기는 점도를 낮추고 원자 이동성을 촉진합니다.

• 버블 생성 및 성장 크리스토발라이트 형성을 유도합니다.

• 하이드록실 함량이 높을수록 디비트리피케이션 가속화 고온에서.

실험실에서는 고온용 석영 유리를 선택할 때 이러한 메커니즘을 고려해야 합니다. 잘못된 선택은 조기 고장으로 이어질 수 있기 때문입니다.

광학 검사를 통해 초기 단계의 헌신화를 모니터링하는 방법

석영 유리의 초기 단계 탈석화는 종종 표면이나 재료의 벌크 내에서 미묘한 변화로 나타납니다. 기술자는 광학 검사 방법을 사용하여 이러한 변화가 심각해지기 전에 이를 감지할 수 있습니다. 확대하면 작은 결정 영역이나 기포가 보이기 시작하여 탈석화의 시작을 알릴 수 있습니다.

일상적인 검사는 실험실에서 문제를 조기에 발견하는 데 도움이 됩니다. 각 고온 사이클 후 유리의 외관을 모니터링하여 크리스토발라이트의 성장을 추적하고 재료가 투명성이나 구조적 무결성을 잃기 전에 조치를 취할 수 있습니다. 이러한 접근 방식은 중요한 실험 중 예기치 않은 실패의 위험을 줄여줍니다.

핵심 포인트:

• 조기 발견은 치명적인 장애를 예방합니다.

• 광학 검사를 통해 미묘한 탈리화 징후를 확인할 수 있습니다.

• 정기적인 모니터링은 실험실에서 석영 유리의 수명을 연장합니다.

OH 변화에 대한 시간-온도-변환(TTT) 다이어그램 이해하기

시간-온도-변형(TTT) 다이어그램은 다양한 온도와 하이드 록실 함량에서 석영 유리에서 얼마나 빨리 탈석화가 일어나는지 보여줍니다. 이 다이어그램은 OH 함량이 높을수록 특히 높은 온도에서 탈석화 속도가 빨라진다는 것을 보여줍니다. 이 과정은 종종 표면 오염에 의해 촉발되는 핵 형성으로 시작하여 점도가 떨어지면서 빠른 결정 성장으로 이어집니다.

• 하이드록실 함량이 높을수록 탈염화율이 높아집니다.

• 표면에서 핵 형성이 시작되고 온도에 따라 성장이 가속화됩니다.

• 더 많은 수산화기로 인해 점도가 낮아지면 크리스토발라이트 형성 속도가 빨라집니다.

TTT 다이어그램은 실험실에서 특정 조건에서 석영 유리의 서비스 수명을 예측하는 데 도움이 됩니다. 저, 보통, 고 OH 함량에 대한 다이어그램을 비교하여 적외선, 열충격 또는 고온 응용 분야에 가장 적합한 재료를 선택할 수 있습니다.

요약:

• TTT 다이어그램은 다양한 실험실 요구 사항에 맞는 자료 선택을 안내합니다.

• OH 함량이 높을수록 안전 작동 기간이 짧아집니다.

• OH 콘텐츠를 애플리케이션과 일치시키면 조기 전용화를 방지할 수 있습니다.

OH 함량 변화(10-30ppm 대 100-150ppm 대 200-250ppm)는 애플리케이션별 트레이드 오프를 어떻게 만들어낼까요?

석영 유리의 OH 함량 실험실 환경에서의 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 저, 보통, 고 등 각 OH 범위는 각기 다른 과학적 작업에 고유한 장단점을 제공합니다. 실험실에서는 이러한 장단점을 비교하여 특정 요구에 가장 적합한 재료를 선택해야 합니다.

멀티 파라미터 성능 맵이 OH 콘텐츠 선택을 안내하는 방법

성능 맵은 실험실에서 OH 함량이 적외선 투과, 열충격 저항, 탈석화와 같은 특성에 어떤 영향을 미치는지 시각화하는 데 도움이 됩니다. 이 맵에 따르면 낮은 OH 함량(10~30ppm)은 적외선 투과율을 극대화하지만 열충격 저항성은 감소합니다. 중간 정도의 OH 함량(100-150ppm)은 두 특성의 균형을 맞추고, 높은 OH 함량(200-250ppm)은 최고의 열충격 저항성을 제공하지만 적외선 선명도와 고온 안정성을 희생합니다.

• 낮은 OH(10~30ppm): 석영 유리의 적외선 응용 분야 및 고온 사용에 가장 적합합니다.

• 보통 OH(100-150ppm): IR 투과와 열충격 저항의 균형을 맞춥니다.

• 높은 OH(200-250ppm): 빠른 열 순환에는 이상적이지만 IR 또는 장기간의 고열에는 적합하지 않습니다.

팁: 성능 맵을 사용하여 각 실험실 용도에 적합한 석영 유리를 찾아보세요. 이 접근 방식은 예기치 않은 고장을 방지하고 장비 수명을 극대화합니다.

OH 사양의 주요 장애 모드를 식별하는 방법

실험실은 공정에서 석영 유리가 실패하는 주된 이유를 파악해야 합니다. 주요 고장 모드는 적외선 투과 손실, 열 충격으로 인한 균열 또는 고온에서의 탈석화일 수 있습니다. 직원들은 이러한 위험의 순위를 매겨 가장 중요한 위협을 해결하는 OH 함량을 선택할 수 있습니다.

핵심 포인트:

• 각 애플리케이션의 주요 위험을 파악하세요.

• 해당 위험을 먼저 해결하려면 OH 콘텐츠를 선택하세요.

• 이 방법은 모든 용도에서 안정적인 성능을 보장합니다.

OH 콘텐츠 비용 프리미엄 이해하기: 낮은 OH와 높은 OH 제조

OH 함량이 다른 석영 유리의 생산에는 고유한 제조 단계가 필요합니다. 전기 융합 및 수증기 없는 플라즈마 공정은 OH 함량이 낮은 고순도 석영을 생성하지만 엄격한 공정 제어로 인해 비용이 더 많이 듭니다. OH 함량이 높은 화염 용융 석영 유리는 수소-산소 대기를 사용하며 비용이 저렴하지만 모든 애플리케이션 요구 사항을 충족하지는 못합니다.

• 저산소 석영 유리: 고순도 석영 및 까다로운 애플리케이션에 가장 적합한 고비용 제품입니다.

• High-OH 석영 유리: 비용이 저렴하여 덜 까다로운 용도에 적합합니다.

• 보통-OH 석영 유리: 비용과 성능 사이의 균형을 제공합니다.

참고: 실험실은 FTIR을 사용하여 OH 함량을 검증하고 모든 배치에 대해 ISO 11455를 준수해야 합니다. 이 단계는 석영 유리가 필요한 사양을 충족하고 신뢰할 수 있는 실험실 결과를 지원하도록 보장합니다.

제조 공정 제어는 어떻게 일관된 OH 함량 변화를 만들어낼 수 있을까요?

제조 공정 제어는 석영 유리의 최종 특성을 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 생산업체는 용융 방법을 조정하고 대기 조건을 모니터링하여 특정 수산기(OH) 함량 수준을 달성할 수 있습니다. OH 함량이 일정하면 각 석영 유리 배치가 실험실 성능 요건을 충족할 수 있습니다.

퓨전 애트머스피어 구성은 OH 인코퍼레이션을 어떻게 제어하나요?

핵융합 대기는 생산 과정에서 석영 유리에 유입되는 OH의 양에 직접적인 영향을 미칩니다. 전기 핵융합은 텅스텐 도가니와 건조한 조건을 사용하므로 수증기가 제한되어 OH 함량이 낮습니다. 반면 수소/산소 불꽃 융합은 더 많은 수증기를 도입하여 약 150ppm의 안정적이고 높은 OH 수준을 이끌어냅니다.

제조업체는 원하는 용도에 따라 용융 방법을 선택합니다. 예를 들어, 전기 용융은 적외선 투과율과 고온 안정성에 이상적인 OH 함량이 낮은 석영 유리를 생산합니다. 화염 용융은 OH 함량이 높은 유리를 생성하여 열충격 저항성은 향상되지만 적외선 선명도는 떨어집니다.

요약:

• 전기 융합은 고순도 요구 사항을 위해 낮은 OH 함량을 산출합니다.

• 화염 융합은 열 순환을 위해 안정적이고 높은 OH 함량을 생성합니다.

• 퓨전 분위기 선택에 따라 석영 유리의 최종 OH 수준이 결정됩니다.

2730nm 흡수 및 OH ppm을 정량화하는 FTIR 측정 프로토콜

FTIR(푸리에 변환 적외선 분광법)은 석영 유리의 OH 함량을 측정하는 신뢰할 수 있는 방법을 제공합니다. 이 기기는 O-H 결합 진동에 해당하는 2730nm에서 흡수 피크를 감지합니다. 기술자는 이 피크의 강도를 분석하여 OH 농도를 백만 분의 1 단위로 계산할 수 있습니다.

표준화된 프로토콜은 정확성과 반복성을 보장합니다. 기술자는 균일한 두께로 샘플을 준비하고 통제된 조건에서 스펙트럼을 기록합니다. 이 결과를 통해 제조업체는 각 배치가 의도된 용도에 필요한 OH 사양을 충족하는지 확인할 수 있습니다.

핵심 포인트:

• FTIR은 2730nm 흡수 피크를 사용하여 OH 함량을 측정합니다.

• 표준 프로토콜은 일관되고 정확한 결과를 보장합니다.

배치 간 OH 검증을 위한 ISO 11455 테스트의 이해

ISO 11455는 석영 유리 생산에서 OH 함량을 확인하기 위한 표준을 설정합니다. 이 테스트 방법에 따라 제조업체는 FTIR을 사용하여 각 배치의 OH 농도를 확인해야 합니다. 일관된 테스트를 통해 모든 배송이 실험실의 성능 요구 사항과 일치하도록 보장합니다.

배치 간 검증을 통해 예기치 않은 고장의 위험을 줄일 수 있습니다. 연구소는 적외선 투과, 열충격 저항, 고온 안정성 등 모든 면에서 석영 유리 재고가 예상대로 작동할 것이라고 신뢰할 수 있습니다.

요약:

• ISO 11455는 정기적인 OH 콘텐츠 테스트를 요구합니다.

• 배치 검증은 신뢰할 수 있는 실험실 결과를 지원합니다.

• 일관된 테스트를 통해 석영 유리 품질에 대한 신뢰를 쌓을 수 있습니다.

조달 전문가는 다중 애플리케이션 연구소를 위해 OH 콘텐츠 트레이드 오프의 균형을 어떻게 맞춰야 할까요?

조달 전문가는 다양한 요구 사항을 가진 실험실에 적합한 석영 유리를 선택할 때 복잡한 문제에 직면합니다. 각 용도에 따라 적외선 투과율, 열충격 저항성, 고온 안정성이 서로 다른 균형을 요구할 수 있습니다. 전문가들은 이러한 장단점을 이해함으로써 성능과 비용을 모두 최적화하는 정보에 입각한 결정을 내릴 수 있습니다.

비용-편익 분석으로 OH 콘텐츠 세분화를 정당화하는 방법

구매팀은 종종 단일 OH 함량 재고를 유지하는 비용과 애플리케이션별로 재고를 세분화하는 비용을 비교합니다. 재고를 세분화한다는 것은 적외선 작업용 저 OH 플레이트, 일반 사용용 중간 OH, 열충격 애플리케이션용 고 OH를 구매하는 것을 의미합니다. 다중 애플리케이션 실험실의 데이터에 따르면 세분화는 재고 비용을 약 12% 증가시키지만 고장률을 67% 감소시키는 것으로 나타났습니다.

• 세분화의 주요 이점:

  • 열충격과 디비트리피케이션 실패를 줄입니다.

  • 각 애플리케이션에 맞는 최적의 성능을 보장합니다.

  • 장비 교체 횟수를 줄이면서 적은 비용 프리미엄을 정당화할 수 있습니다.

팁: OH 함량별로 재고를 분류하면 특히 적외선 및 고온 공정이 모두 있는 실험실에서 고장이 줄어들고 장비 수명이 연장됩니다.

애플리케이션-OH 콘텐츠 매핑 매트릭스를 만드는 방법

조달 전문가는 매핑 매트릭스를 사용하여 각 실험실 애플리케이션을 이상적인 OH 함량 범위와 일치시킬 수 있습니다. 이 접근 방식은 불일치를 방지하고 모든 공정이 최상의 재료를 사용하도록 보장합니다. 아래 표에는 일반적인 실험실 요구 사항에 대한 권장 OH 함량이 요약되어 있습니다:

핵심 포인트:

• 애플리케이션을 OH 콘텐츠에 매핑하면 비용이 많이 드는 오류를 방지할 수 있습니다.

• 매트릭스 접근 방식은 효율적인 조달 계획을 지원합니다.

이 방법을 사용하는 조달 팀은 모든 실험실 공정에 적합한 석영 유리를 자신 있게 선택할 수 있습니다.

석영판 오 함량 변화 실험실에서 성능을 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 각 실험실은 애플리케이션의 특정 요구 사항에 따라 석영 유리를 선택해야 합니다. 실험실에서 장단점을 이해하고 품질 관리 방법을 사용하면 비용이 많이 드는 실패를 피할 수 있습니다. 재고를 세분화하고 공급업체를 검증하여 올바른 재료가 모든 실험을 지원하도록 보장합니다.

자주 묻는 질문

OH 함량이 높을수록 석영판의 적외선 투과율이 감소하는 이유는 무엇인가요?

수산기는 특정 파장에서 적외선을 흡수합니다. 이 흡수는 2500nm 이상의 투과를 차단합니다. OH 함량이 높을수록 이 효과가 증가하여 석영 플레이트는 근적외선 애플리케이션에 적합하지 않습니다.

실험실에서 석영판 재고를 OH 함량별로 분류해야 하는 이유는 무엇인가요?

재고를 세분화하면 각 애플리케이션에서 최적의 석영판을 사용할 수 있습니다. 이 접근 방식은 장비 고장을 줄이고 실험 신뢰성을 향상시킵니다. 실험실에서 OH 함량을 각 공정에 맞출 때 열 충격 파손과 석영 석회화 문제를 줄일 수 있습니다.

OH 함량이 높으면 열충격 저항성이 향상되는 이유는 무엇인가요?

OH 함량이 높으면 고온에서 석영 유리의 점도가 낮아집니다. 이러한 변화로 인해 유리는 급속 가열 또는 냉각 중에 응력을 더 쉽게 완화할 수 있습니다. 결과적으로 플레이트는 극한의 열 순환에서도 균열이 생기지 않습니다.

고온 용광로 사용에 저 OH 석영 유리가 선호되는 이유는 무엇입니까?

저 OH 석영 유리는 장기간 고온 노출 시 탈석화에 저항합니다. 수산기가 적다는 것은 결정 핵 생성이 적고 크리스토발라이트로의 변환이 느리다는 것을 의미합니다. 이 특성은 용광로에서 석영판의 수명을 연장합니다.

제조업체가 FTIR을 사용하여 OH 함량을 확인하는 이유는 무엇입니까?

FTIR은 2730nm에서 흡수 피크를 측정하며, 이는 OH 농도와 직접적으로 관련이 있습니다. 이 방법은 정확하고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 제조업체는 각 배치가 실험실 성능 표준을 충족하는지 확인하기 위해 FTIR에 의존합니다.