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Bouteilles sources en quartz de qualité technique pour les systèmes CVD/ALD -TOQUARTZ®.
Caractéristiques des flacons-sources en quartz
Les flacons sources en quartz de haute pureté TOQUARTZ® sont conçus spécifiquement pour les applications nécessitant une distribution précise des précurseurs dans les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt par couche atomique (ALD) et autres procédés apparentés. Chaque flacon est fabriqué à partir de quartz de première qualité afin de garantir des performances constantes dans des environnements exigeants.
Propriétés des matériaux
- Quartz de haute pureté (jusqu'à 99,995% SiO₂) pour une contamination minimale dans les applications de recherche sur les semi-conducteurs et les matériaux.
- Résistance aux chocs thermiques, capable de supporter des changements de température rapides sans se fissurer
- Résistance chimique aux acides, aux alcalis, aux sels fondus et aux gaz contenant du fluor utilisés dans les processus de dépôt
- Stabilité à haute température jusqu'à 1200°C, idéal pour les applications CVD à haute température et la synthèse de matériaux
Caractéristiques de la conception
- Tubes d'entrée et de sortie conçus avec précision pour contrôler le flux de gaz et la formation de bulles dans les systèmes d'administration de précurseurs
- La conception hautement transparente permet un contrôle visuel aisé des niveaux de précurseurs et de l'action de barbotage pendant le fonctionnement.
- Disponible avec des raccords personnalisés, y compris des joints en verre dépoli, des raccords à compression ou des connexions spécialisées pour s'intégrer aux systèmes existants.
- Précision dimensionnelle de ±0,1 mm pour les composants critiques, garantissant la fiabilité des performances et la compatibilité du système
- 99.99% SiO₂ Pureté
- Résistance chimique
- Joints de précision
Spécifications techniques du flacon-source de quartz
Propriétés physiques
| Paramètres | Valeur / Description |
| Densité | 2,2 g/cm³ - Assure la stabilité mécanique sous vide et en cycles thermiques |
| Température maximale de fonctionnement | 1200°C - Convient à la vaporisation de précurseurs à haute température en CVD/MOCVD |
| Résistance aux chocs thermiques | ∆T ≥ 900°C - Supporte un chauffage/refroidissement rapide dans les cycles ALD pulsés |
| Coefficient de dilatation thermique | 5,5 × 10-⁷ /°C (20-800°C) - Minimise les contraintes lors de la montée en température |
| Conductivité thermique | 1,4 W/m-K (à 20°C) - Permet une distribution uniforme de la chaleur dans les zones de précurseurs |
Propriétés chimiques
| Paramètres | Valeur / Description |
| Teneur en SiO₂ | ≥99.99% - Empêche la contamination métallique dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs de moins de 10 nm |
| Oligo-éléments totaux | <10 ppm - Vérifié par GDMS pour les environnements de dépôt ultra-propres |
| Résistance à l'acide | Excellent (sauf HF) - Compatible avec les précurseurs d'halogénures comme TiCl₄, WF₆ |
| Résistance aux alcalins | Bon en dessous de 600°C - Convient à la manipulation de précurseurs sensibles aux bases |
Propriétés optiques
| Paramètres | Valeur / Description |
| Indice de réfraction | 1,458 (à 589,3 nm) - Permet un contrôle visuel des niveaux de précurseurs |
| Transmission des UV | >80% (200-2000 nm) - Prise en charge de l'inspection optique et des diagnostics de processus basés sur les UV |
| Transmission IR | Bon jusqu'à 3,5 μm - Permet le chauffage et la surveillance IR dans les systèmes MOCVD |
TOQUARTZ® Résoudre les problèmes de laboratoire avec les flacons sources en quartz
Bouteilles-sources en quartz pour la fabrication de semi-conducteurs
Principaux avantages
-
Teneur ultra-faible en métaux traces
Impuretés métalliques totales < 5 ppb vérifié par GDMS, garantissant l'absence de contamination ionique dans les processus de nœuds 7nm. -
Stabilité dimensionnelle à haute température
Dérive dimensionnelle < 0,03mm après un recuit de 1000°C pendant 24h, critique pour l'uniformité épitaxiale. -
Compatibilité avec les gaz halogénés
Résistance prouvée à TiCl₄, WF₆ et BCl₃ sans dévitrification de la surface après 200 cycles.
Solution TOQUARTZ
Un équipementier américain spécialisé dans les semi-conducteurs a dû faire face à une perte de rendement de 12% en raison de la contamination des précurseurs lors de la CVD à base de TiCl₄. TOQUARTZ a fourni des flacons sources en quartz avec <5 ppb impurity levels and halide-resistant polish. Yield improved by 9.4%, saving $27,000/month in wafer scrap.
Bouteilles de précurseurs en quartz fondu pour la recherche et le développement
Principaux avantages
-
Délai d'exécution rapide des prototypes
Les bulleurs en quartz personnalisés sont livrés en 12 jours ouvrables, de l'approbation du dessin à l'expédition. -
Fabrication de géométries complexes
Tolérance de ±0,1 mm sur des tubes d'admission pliés en 3D avec une épaisseur de paroi de 2,5 mm. -
Pas de MOQ pour les conceptions personnalisées
Prise en charge des commandes d'une seule pièce pour 7 configurations différentes de précurseurs ALD en un seul lot.
Solution TOQUARTZ
Un laboratoire universitaire européen avait besoin de 3 barboteurs à quartz uniques pour l'ALD de nouveaux matériaux 2D. TOQUARTZ a livré les trois modèles en deux semaines, ce qui a permis à l'équipe de respecter une étape de la subvention Horizon 2020 et d'obtenir un financement continu de 120 000 euros.
Bouteilles-sources en verre quartz pour la production de matériaux avancés
Principaux avantages
-
Répétabilité dimensionnelle d'un lot à l'autre
Variation du diamètre extérieur < ±0,05 mm sur un cycle de production de 200 unités, vérifié par micrométrie laser. -
Durée de vie prolongée de l'exposition aux produits chimiques
Maintien de l'intégrité structurelle après 500 heures d'exposition au POCl₃ à 950°C. -
Expédition 24 heures sur 24 pour les UGS standard
Les modèles de 500 ml et 1500 ml sont expédiés dans les 24 heures, ce qui réduit le risque d'arrêt de la ligne.
Solution TOQUARTZ
Un fournisseur coréen de matériaux OLED a connu un temps d'arrêt de 6 heures/mois en raison d'une défaillance du bulleur lors de la livraison de POCl₃. TOQUARTZ a remplacé les bouteilles sources par des unités en quartz de haute durabilité, prolongeant la durée de vie de 3,2× et réduisant le temps d'arrêt de 83%, économisant ainsi $18 000/mois de production perdue.
Services de personnalisation TOQUARTZ® pour les flacons sources en quartz
Consultation sur la conception
Notre équipe d'ingénieurs analyse les exigences de votre processus et fournit des dessins techniques pour les flacons sources en quartz personnalisés. Nous pouvons modifier des conceptions existantes ou créer des configurations entièrement nouvelles pour optimiser la distribution des précurseurs.
Développement de prototypes
Nous produisons des prototypes fonctionnels de flacons sources en quartz personnalisés pour la livraison de précurseurs ALD dans des délais rapides. Testez vos concepts avant de vous engager dans des quantités de production, avec une livraison typique du prototype en 2 à 3 semaines.
Production manufacturière
Une fois votre conception finalisée, nous passons à la fabrication en série avec un contrôle de qualité rigoureux. Nous maintenons des spécifications cohérentes d'un lot à l'autre et offrons des volumes de production flexibles.
Options de personnalisation
- Capacités personnalisées de 500 ml à 5 000 ml
- Tubes d'admission spécialisés pour un bullage optimisé
- Raccords personnalisés compatibles avec votre système existant
- Configurations multi-chambres pour les processus complexes
- Épaisseur de paroi modifiée pour des profils thermiques spécifiques
- Intégration aux systèmes de contrôle de la température
Guide d'utilisation des flacons-sources en quartz
La manipulation, l'installation et l'entretien corrects des flacons sources de quartz sont essentiels pour garantir des performances optimales et une durée de vie prolongée dans les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt chimique en phase liquide (ALD) et autres procédés de dépôt. Les directives suivantes vous aideront à maximiser la valeur de vos composants de livraison de précurseurs de quartz.
Manutention et installation
- Portez toujours des gants propres et non poudrés lorsque vous manipulez des flacons sources en quartz afin d'éviter toute contamination.
- Inspectez toutes les connexions pour vous assurer qu'elles sont bien ajustées avant de les installer dans votre système.
- Lorsque vous serrez les raccords, appliquez une pression régulière et évitez de trop serrer, ce qui pourrait fissurer le quartz.
- Prévoir un espace suffisant autour de la bouteille pour permettre la dilatation thermique pendant les cycles de chauffage.
Fonctionnement et entretien
- Mettre en place des cycles de chauffage et de refroidissement progressifs pour éviter les chocs thermiques (taux recommandé) : <5°C/min)
- Pour le nettoyage, n'utiliser que des solvants et des acides approuvés qui sont compatibles avec le quartz de haute pureté.
- Contrôler régulièrement la dévitrification (blanchiment du quartz), qui indique la nécessité d'un remplacement.
- Conserver les bouteilles vides dans un environnement propre et sec, à l'écart des sources d'alcali.
2. Lors du remplissage, maintenir un espace libre d'au moins 1/3 afin de permettre le dégagement de bulles de gaz et l'expansion.
3. Pour les précurseurs sensibles à la température, pré-refroidir le flacon avant de le remplir.
4. Après le chargement, purger le système avec un gaz inerte avant de le chauffer pour éliminer toute trace d'humidité ou d'oxygène.
5. Suivre les directives de manipulation spécifiques aux précurseurs afin d'éviter une décomposition ou une contamination prématurée.
Prêt à optimiser votre système de distribution de précurseurs ?
TOQUARTZ® fournit des solutions de haute qualité avec une assistance technique et des délais d'exécution rapides.
Pourquoi s'associer à TOQUARTZ ?
Avantage de l'usine directe
En tant que fabricant direct, nous pouvons supprimer les nombreux liens intermédiaires.
Expertise en ingénierie
L'équipe technique guide les clients depuis la sélection des matériaux jusqu'à l'optimisation de la conception, en traduisant les spécifications en produits livrables.
Fabrication flexible
Traiter les commandes standard et personnalisées grâce à une expertise en matière de petites séries et à une rigueur de prototypage afin de respecter les délais urgents.
Qualité
Assurance
Validation en 3 étapes avant expédition :
1. la précision des dimensions,
2. pureté du matériau ,
3. les seuils de performance
Chaîne d'approvisionnement mondiale
Logistique mondiale fiable vers les centres industriels (DE/US/JP/KR en priorité) avec des étapes traçables.
Produits réimprégnés
En tant que fabricant spécialisé disposant de capacités d'usinage directes, TOQUARTZ fournit des solutions en quartz standard et personnalisées avec une assistance technique tout au long du processus de spécification et de mise en œuvre.
FAQ
Q : Quelle est l'utilité d'une bouteille source en quartz dans le cadre d'un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ?
R : Un flacon source en quartz pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est utilisé pour contenir et délivrer les produits chimiques précurseurs qui forment le film déposé. La construction en quartz de haute pureté empêche toute contamination tout en permettant l'évaporation contrôlée ou le barbotage du gaz porteur à travers le précurseur pour le transporter jusqu'à la chambre de réaction.
Q : Les flacons sources en quartz peuvent-ils être utilisés avec des précurseurs corrosifs ?
R : Oui, le quartz de haute pureté offre une excellente résistance à la plupart des produits chimiques corrosifs, y compris les acides forts (sauf HF), les bases inférieures à 600°C et les composés halogénés couramment utilisés comme précurseurs. Cette stabilité chimique empêche la contamination du précurseur et garantit une qualité de dépôt constante.
Q : Quelle température les bouteilles sources en quartz peuvent-elles supporter ?
R : Les flacons sources en quartz TOQUARTZ® peuvent supporter des températures de fonctionnement continu allant jusqu'à 1200°C. Le matériau conserve son intégrité structurelle et son inertie chimique à ces températures, ce qui le rend idéal pour les applications de livraison de précurseurs à haute température dans les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt chimique en phase liquide (ALD).
Q : Les flacons sources en quartz peuvent-ils être utilisés avec des précurseurs solides ?
R : Oui, les flacons sources en quartz peuvent être conçus spécifiquement pour les précurseurs solides. Ces modèles présentent généralement des ouvertures plus larges pour le chargement, des zones de chauffage spécialisées pour contrôler la sublimation et des voies d'écoulement de gaz conçues pour transporter efficacement le précurseur sublimé jusqu'à la chambre de réaction.
Q : Est-il possible de concevoir des flacons sources en quartz sur mesure pour des systèmes ALD spécifiques ?
R : Oui, TOQUARTZ® est spécialisé dans la conception de flacons sources en quartz personnalisés pour l'apport de précurseurs ALD qui correspondent aux spécifications exactes du système. Nous pouvons créer des configurations d'entrée, des systèmes de distribution de gaz, des zones de chauffage et des types de connexion personnalisés afin d'optimiser l'apport de précurseurs en fonction des exigences spécifiques de votre procédé ALD.
Contactez notre équipe d'ingénieurs pour une consultation technique et un devis. Nous vous aiderons à sélectionner les spécifications optimales pour votre application.
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