- Inicio
- /
- Tipos
- /
- Botella de cuarzo
- /
- Fuente de cuarzo de calidad...
Botellas de cuarzo de calidad de ingeniería a medida para sistemas CVD/ALD -TOQUARTZ
Características de las botellas de cuarzo
Los frascos fuente de cuarzo de alta pureza TOQUARTZ® están diseñados específicamente para aplicaciones que requieren un suministro preciso de precursores en deposición química en fase vapor (CVD), deposición de capas atómicas (ALD) y procesos relacionados. Cada una de ellas está fabricada con material de cuarzo de primera calidad para garantizar un rendimiento constante en entornos exigentes.
Propiedades de los materiales
- Material de cuarzo de gran pureza (hasta 99,995% SiO₂) para una contaminación mínima en aplicaciones de semiconductores e investigación de materiales.
- Resistencia al choque térmico, capaz de soportar cambios rápidos de temperatura sin agrietarse
- Resistencia química a los ácidos, álcalis, sales fundidas y gases fluorados utilizados en los procesos de deposición.
- Estabilidad a altas temperaturas de hasta 1200°C, ideal para aplicaciones de CVD a alta temperatura y síntesis de materiales.
Características de diseño
- Tubos de entrada y salida diseñados con precisión para controlar el flujo de gas y la formación de burbujas en los sistemas de suministro de precursores.
- Su diseño altamente transparente permite un fácil control visual de los niveles de precursores y de la acción de burbujeo durante el funcionamiento
- Disponible con accesorios personalizados, como juntas esmeriladas, accesorios de compresión o conexiones especializadas para integrarse en los sistemas existentes.
- Precisión dimensional de ±0,1 mm para componentes críticos, lo que garantiza un rendimiento fiable y la compatibilidad del sistema.
- 99,99% SiO₂ Pureza
- Resistencia química
- Juntas de precisión
Especificaciones técnicas de la botella fuente de cuarzo
Propiedades físicas
| Parámetro | Valor / Descripción |
| Densidad | 2,2 g/cm³ - Garantiza la estabilidad mecánica en vacío y ciclos térmicos |
| Temperatura máxima de trabajo | 1200°C - Adecuado para la vaporización de precursores a alta temperatura en CVD/MOCVD |
| Resistencia al choque térmico | ∆T ≥ 900°C - Soporta el calentamiento/enfriamiento rápido en ciclos pulsados de ALD. |
| Coeficiente de dilatación térmica | 5,5 × 10-⁷ /°C (20-800°C) - Minimiza la tensión durante la rampa térmica. |
| Conductividad térmica | 1,4 W/m-K (a 20°C) - Permite una distribución uniforme del calor en las zonas precursoras |
Propiedades químicas
| Parámetro | Valor / Descripción |
| Contenido de SiO₂ | ≥99.99% - Evita la contaminación por metales en procesos de semiconductores sub-10nm. |
| Oligoelementos totales | <10 ppm - Verificado por GDMS para entornos de deposición ultralimpios |
| Resistencia al ácido | Excelente (excepto HF) - Compatible con precursores de haluros como TiCl₄, WF₆. |
| Resistencia a los álcalis | Bueno por debajo de 600°C - Adecuado para la manipulación de precursores sensibles a la base |
Propiedades ópticas
| Parámetro | Valor / Descripción |
| Índice de refracción | 1,458 (a 589,3 nm) - Permite el control visual de los niveles de precursores |
| Transmisión UV | >80% (200-2000 nm) - Admite inspección óptica y diagnóstico de procesos por UV |
| Transmisión IR | Bueno hasta 3,5 μm - Permite el calentamiento por IR y la supervisión en sistemas MOCVD. |
TOQUARTZ® Resolver los retos del laboratorio con botellas de cuarzo de origen
Botellas fuente de cuarzo para la fabricación de semiconductores
Principales ventajas
-
Contenido ultrabajo en oligoelementos
Impurezas metálicas totales < 5 ppb verificado por GDMS, garantizando la ausencia de contaminación iónica en los procesos del nodo de 7nm. -
Estabilidad dimensional a altas temperaturas
Desviación dimensional < 0,03mm después de 1000°C de recocido durante 24h, crítico para la uniformidad epitaxial. -
Compatibilidad con gases halogenados
Resistencia probada a TiCl₄, WF₆ y BCl₃ sin desvitrificación de la superficie tras 200 ciclos.
Solución TOQUARTZ
Un fabricante estadounidense de semiconductores se enfrentaba a una pérdida de rendimiento de 12% debido a la contaminación de precursores en CVD basado en TiCl₄. TOQUARTZ suministró botellas fuente de cuarzo con <5 ppb impurity levels and halide-resistant polish. Yield improved by 9.4%, saving $27,000/month in wafer scrap.
Frascos de precursores de cuarzo fundido para investigación y desarrollo
Principales ventajas
-
Rápida creación de prototipos
Los borboteadores de cuarzo personalizados se entregan en 12 días laborables desde la aprobación del dibujo hasta el envío. -
Fabricación de geometrías complejas
Tolerancia de ±0,1 mm en tubos de entrada curvados en 3D con paredes de 2,5 mm de grosor. -
Sin MOQ para diseños personalizados
Pedidos de una pieza para 7 configuraciones diferentes de precursores ALD en un solo lote.
Solución TOQUARTZ
Un laboratorio universitario europeo necesitaba 3 burbujeadores de cuarzo únicos para ALD de nuevos materiales 2D. TOQUARTZ entregó los tres diseños en dos semanas, lo que permitió al equipo cumplir un hito de la subvención Horizonte 2020 y asegurarse 120.000 euros de financiación continua.
Botellas fuente de vidrio de cuarzo para la producción de materiales avanzados
Principales ventajas
-
Repetibilidad dimensional entre lotes
Variación OD < ±0,05 mm en 200 unidades de producción, verificado por micrometría láser. -
Prolongación de la vida útil de la exposición química
Mantuvo la integridad estructural tras 500 horas de exposición a POCl₃ a 950°C. -
Envíos en 24 horas para las referencias estándar
Los modelos de 500 ml y 1500 ml se envían en 24 horas, lo que reduce el riesgo de interrupción de la línea.
Solución TOQUARTZ
Un proveedor coreano de materiales OLED experimentó un tiempo de inactividad de 6 horas/mes debido al fallo del burbujeador en la entrega de POCl₃. TOQUARTZ sustituyó sus botellas fuente por unidades de cuarzo de alta durabilidad, lo que prolongó la vida útil en 3,2× y redujo el tiempo de inactividad en 83%, ahorrando $18.000/mes en producción perdida.
Servicios de personalización TOQUARTZ® para botellas fuente de cuarzo
Consulta sobre diseño
Nuestro equipo de ingeniería analiza los requisitos de su proceso y proporciona dibujos técnicos para botellas fuente de cuarzo personalizadas. Podemos modificar los diseños existentes o crear configuraciones totalmente nuevas para optimizar el suministro de precursores.
Desarrollo de prototipos
Producimos prototipos funcionales de botellas fuente de cuarzo personalizadas para el suministro de precursores ALD con plazos de entrega rápidos. Pruebe sus conceptos de diseño antes de comprometerse con las cantidades de producción, con una entrega típica de prototipos en 2-3 semanas.
Fabricación
Una vez finalizado su diseño, pasamos a la fabricación en serie con un riguroso control de calidad. Mantenemos especificaciones uniformes en todos los lotes y ofrecemos volúmenes de producción flexibles.
Opciones de personalización
- Capacidades personalizadas de 500 ml a 5.000 ml
- Diseños de tubo de entrada especializados para optimizar el burbujeo
- Accesorios personalizados compatibles con su sistema actual
- Configuraciones multicámara para procesos complejos
- Espesor de pared modificado para perfiles térmicos específicos
- Integración con sistemas de control de temperatura
Pautas de uso de los biberones de cuarzo
El manejo, la instalación y el mantenimiento adecuados de los frascos fuente de cuarzo son esenciales para garantizar un rendimiento óptimo y una vida útil prolongada en los procesos de CVD, ALD y otros procesos de deposición. Las siguientes directrices le ayudarán a maximizar el valor de sus componentes de suministro de precursores de cuarzo.
Manipulación e instalación
- Utilice siempre guantes limpios y sin polvo para manipular los frascos fuente de cuarzo y evitar la contaminación.
- Inspeccione todas las conexiones para comprobar que se ajustan correctamente antes de instalarlas en su sistema
- Cuando apriete los racores, aplique una presión uniforme y evite apretarlos en exceso, ya que podría agrietar el cuarzo.
- Dejar un espacio suficiente alrededor de la botella para la expansión térmica durante los ciclos de calentamiento.
Funcionamiento y mantenimiento
- Aplicar ciclos graduales de calentamiento y enfriamiento para evitar el choque térmico (tasa recomendada: <5°C/min)
- Para la limpieza, utilice únicamente disolventes y ácidos autorizados compatibles con el cuarzo de gran pureza.
- Inspeccionar periódicamente para detectar la desvitrificación (blanqueamiento del cuarzo), que indica la necesidad de sustituirlo.
- Guarde las botellas vacías en un lugar limpio y seco, lejos de fuentes alcalinas.
2. Al llenar, mantenga un espacio libre mínimo de 1/3 para permitir el burbujeo y la expansión adecuados del gas.
3. Para los precursores sensibles a la temperatura, enfriar previamente el frasco antes de llenarlo.
4. Después de la carga, purgar el sistema con gas inerte antes del calentamiento para eliminar cualquier resto de humedad u oxígeno.
5. Siga las directrices de manipulación específicas de los precursores para evitar la descomposición prematura o la contaminación.
¿Está listo para optimizar su sistema de suministro de precursores?
TOQUARTZ® ofrece soluciones de alta calidad con soporte de ingeniería y plazos de entrega rápidos.
Por qué asociarse con TOQUARTZ
Ventaja directa de fábrica
Como fabricante directo, podemos suprimir los numerosos eslabones intermedios.
Experiencia en ingeniería
El equipo técnico guía a los clientes desde la selección de materiales hasta la optimización del diseño, traduciendo las especificaciones en resultados.
Fabricación flexible
Gestión de pedidos estándar y personalizados mediante la experiencia en lotes pequeños y el rigor en la creación de prototipos para cumplir los plazos urgentes.
Calidad
Garantía
Validación previa al envío en tres pasos:
1. precisión dimensional,
2. pureza del material ,
3. umbrales de rendimiento
Cadena mundial de suministro
Logística global fiable a centros industriales (prioridad DE/US/JP/KR) con hitos rastreables.
Productos recuperados
Como fabricante especializado con capacidad directa de fábrica, TOQUARTZ proporciona soluciones de cuarzo tanto estándar como personalizadas con soporte de ingeniería durante todo el proceso de especificación e implementación.
PREGUNTAS FRECUENTES
P: ¿Para qué se utiliza una botella fuente de cuarzo en CVD?
R: En el CVD (depósito químico en fase vapor) se utiliza una botella fuente de cuarzo para contener y suministrar los precursores químicos que forman la película depositada. La construcción de cuarzo de alta pureza evita la contaminación al tiempo que permite la evaporación controlada o el burbujeo de gas portador a través del precursor para transportarlo a la cámara de reacción.
P: ¿Se pueden utilizar botellas fuente de cuarzo con precursores corrosivos?
R: Sí, el cuarzo de gran pureza ofrece una excelente resistencia a la mayoría de los productos químicos corrosivos, incluidos los ácidos fuertes (excepto HF), las bases por debajo de 600°C y los compuestos halogenados utilizados habitualmente como precursores. Esta estabilidad química evita la contaminación del precursor y garantiza una calidad de deposición constante.
P: ¿Qué temperatura pueden soportar los frascos fuente de cuarzo?
R: Los frascos fuente de cuarzo TOQUARTZ® pueden soportar temperaturas de funcionamiento continuo de hasta 1200°C. El material mantiene su integridad estructural y su inercia química a estas temperaturas, lo que lo hace ideal para aplicaciones de suministro de precursores a alta temperatura en procesos de CVD y ALD.
P: ¿Se pueden utilizar botellas fuente de cuarzo con precursores sólidos?
R: Sí, las botellas fuente de cuarzo pueden diseñarse específicamente para precursores sólidos. Estos diseños suelen presentar aberturas más anchas para la carga, zonas de calentamiento especializadas para controlar la sublimación y vías de flujo de gas diseñadas para transportar el precursor sublimado de forma eficiente a la cámara de reacción.
P: ¿Se pueden diseñar botellas fuente de cuarzo a medida para sistemas ALD específicos?
R: Sí, TOQUARTZ® se especializa en diseños personalizados de botellas fuente de cuarzo para el suministro de precursores ALD que se ajustan a las especificaciones exactas del sistema. Podemos crear configuraciones de entrada personalizadas, sistemas de distribución de gas, zonas de calentamiento y tipos de conexión para optimizar el suministro de precursores para los requisitos específicos de su proceso ALD.
Póngase en contacto con nuestro equipo de ingeniería para obtener asesoramiento técnico y precios. Le ayudaremos a seleccionar las especificaciones óptimas para los requisitos de su aplicación.





