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Petrischale aus hochreinem Quarz für Laboranwendungen -TOQUARTZ®
Ideal for research laboratories, biomedical equipment manufacturers, and industrial testing facilities requiring superior performance.
Key Features of Quartz Petri Dish
TOQUARTZ® quartz petri dishes are engineered from ultra-high purity fused silica, offering exceptional performance characteristics that make them ideal for demanding laboratory and research applications where standard glass or plastic dishes would fail.
Hohe Temperaturbeständigkeit
Softening point of 1730°C with long-term use capability at 1200°C and short-term exposure up to 1450°C without deformation.
Ausgezeichnete thermische Stabilität
Extremely low thermal expansion coefficient allows for rapid temperature changes without cracking, even when heated to 1100°C and plunged into room temperature water.
Höchste Reinheit
SiO₂ content exceeding 99.99%, ensuring minimal contamination for sensitive biological and chemical applications.
Hervorragende chemische Beständigkeit
Inert to virtually all chemicals except hydrofluoric acid. 30x more resistant than ceramics and 150x more resistant than stainless steel.
- 99.99% SiO₂ Reinheit
- UV-Visuelle-IR-Transparenz
- Hervorragende chemische Beständigkeit
Technical Specifications & Available Dimensions of Quartz Petri Dish
| Modell | Bottom | Lid | Wanddicke(mm) | Die Reinheit von Si2O（%） | ||
| Outer Dia.(mm) | Höhe(mm) | Outer Dia.(mm) | Höhe(mm) | |||
| AT-SYM-001 | 25 | 21 | 25 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-002 | 30 | 21 | 35 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-003 | 35 | 21 | 40 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-004 | 40 | 21 | 45 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-005 | 45 | 21 | 50 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-006 | 50 | 21 | 55 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-007 | 55 | 21 | 60 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-008 | 60 | 21 | 65 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-009 | 65 | 21 | 70 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-010 | 70 | 21 | 75 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-011 | 75 | 21 | 82 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-012 | 80 | 21 | 87 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-013 | 85 | 21 | 92 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-014 | 90 | 21 | 98 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-015 | 95 | 21 | 103 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-016 | 100 | 21 | 108 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-017 | 110 | 21 | 118 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-018 | 115 | 21 | 123 | 19 | 2 | 99.99% |
| AT-SYM-019 | 120 | 21 | 130 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-020 | 125 | 21 | 135 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-021 | 130 | 21 | 140 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-022 | 135 | 21 | 145 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-023 | 140 | 21 | 150 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-024 | 150 | 21 | 160 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-025 | 160 | 21 | 170 | 19 | 3 | 99.99% |
| AT-SYM-026 | 180 | 21 | 195 | 19 | 4 | 99.99% |
| AT-SYM-027 | 190 | 21 | 205 | 19 | 4 | 99.99% |
| AT-SYM-028 | 200 | 21 | 215 | 19 | 4 | 99.99% |
| AT-SYM-029 | 250 | 21 | 265 | 19 | 4 | 99.99% |
| AT-SYM-030 | 300 | 21 | 315 | 19 | 4 | 99.99% |
| SiO₂-Gehalt | ≥ 99.99% |
| Maximale Arbeitstemperatur | 1200°C (long-term), 1450°C (short-term) |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 5.5 × 10-⁷/K |
| Übertragung von sichtbarem Licht | ≥ 93% |
| UV-Transmission | ≥ 80% |
| Oberflächenrauhigkeit | Ra ≤ 0.2 μm |
TOQUARTZ® Solving Challenges with Quartz Petri Dish
Quartz Petri Dishes for High-Temperature Microbiology & Cell Culture
TOQUARTZ® quartz petri dishes enable researchers to perform high-temperature protocols without compromising sample integrity or experimental results.
Die wichtigsten Vorteile
- Supports direct flaming at 900–1100°C without microfracture
- 0% dish warping after 50× autoclave runs at 121°C/1.2 bar against 23% in sodium-lime glass analogs
- In high-heat cell incubation experiments (≥70°C), maintains dimensional accuracy within <0.05mm over 24h interval under cyclical thermal stress
- Works in combination with high-pH buffer systems (e.g., Tris-HCl, pH 8.0–8.5 @ 90°C) without surface reactions or protein adsorption
TOQUARTZ®-Lösung
A US-based research laboratory reported 15% experiment failure rates due to plastic petri dish deformation during extended incubation protocols.
TOQUARTZ® quartz petri dishes eliminated deformation issues completely, ensuring consistent results across all experimental replicates.
Quartz Petri Dishes for Corrosive Chemical Analysis
TOQUARTZ® high-purity quartz petri dishes provide exceptional chemical resistance that outperforms both standard laboratory glassware and stainless steel containers.
Die wichtigsten Vorteile
- Sustained exposure to 37% hydrochloric acid, 98% sulfuric acid, and 1:1 nitric:perchloric mixtures at 180°C showed <0.001% surface erosion after 96 hours (SEM tested)
- In baseline ICP-MS trace metal analysis, quartz petri dishes showed <5 ppb leaching for all monitored elements vs. up to 30 ppb for soda-lime glass controls
- Prevents alkaline etching from NaOH or KOH up to 5M at 150°C, critical for high-throughput base digestion processes (verified by XRD test showing no crystalline phase shift)
TOQUARTZ®-Lösung
Many electronic producers encounter performance inconsistency due to substrate purity variations or thermal drift.
TOQUARTZ clear quartz glass plates meet high stability and purity standards (>99.99% SiO₂), ensuring stable signal transmission in critical RF and timing devices.
Quartz Petri Dishes for Optical & Spectroscopic Applications
TOQUARTZ® quartz petri dishes provide superior transparency from UV through visible to IR wavelengths, enabling precise optical measurements without interference.
Die wichtigsten Vorteile
- >93.5% @ 550nm (visible spectrum) and >82% @ 254nm (UV-C), enabling accurate fluorescence quantification across FAM/Cy3/Cy5 ranges
- Spectral transmission flat across 200–2700nm: no peak distortion or scattering artifacts observed in Raman/FTIR setups
- Demonstrated autofluorescence <0.01% Y-axis deviation during 488nm excitation sequencing
- Surface wavefront uniformity matched to λ/10 per inch @ 633nm — ideal for applications with focal laser alignment in microscopy or photonics setups
TOQUARTZ®-Lösung
Ein japanisches Forschungsinstitut berichtete über uneinheitliche Ergebnisse bei der Fluoreszenzbildgebung aufgrund unterschiedlicher optischer Eigenschaften von Standardpetrischalen.
TOQUARTZ®-Petrischalen aus Quarzglas boten eine gleichbleibende optische Leistung, eliminierten Hintergrundschwankungen und ermöglichten zuverlässige quantitative Fluoreszenzmessungen.
Customization Services for TOQUARTZ® Quartz Petri Dish
- Benutzerdefinierte Abmessungen
Specify exact diameter, height, and wall thickness to match your equipment or experimental protocols.
- Besondere Merkmale
Add custom features like grid markings, positioning notches, alignment markers, or specialized edge treatments to enhance functionality for your specific application.
- Auswahl der Materialsorte
Specialized surface treatments including fire polishing, precision grinding, or surface etching to achieve specific optical properties or surface characteristics.
- TOQUARTZ®-Anpassungsprozess
Konsultation
TOQUARTZ® engineers discuss your requirements and application challenges
Entwurf & Prototyping
Development of technical drawings and initial samples
Validierung
Sample testing and refinement based on your feedback
Produktion
Scaled manufacturing with comprehensive quality control
Usage Guide for Quartz Petri Dish
Reinigung und Vorbereitung
Initial Soaking
New quartz petri dishes should be soaked in clean water to dissolve any surface contaminants. For new dishes, rinse with tap water and soak overnight in 5% hydrochloric acid solution.
Thorough Scrubbing
After soaking, scrub dishes with a soft-bristled brush and laboratory detergent. Avoid abrasive materials that could damage the polished surface. Rinse thoroughly after scrubbing.
Acid Soaking
For thorough cleaning, soak in cleaning solution or acid bath for at least 6 hours (preferably overnight). This oxidative process removes all organic residues and contaminants.
Thorough Rinsing
After acid treatment, rinse dishes at least 15 times with fresh water, followed by 2-3 final rinses with distilled or deionized water. Proper rinsing is critical for cell culture applications.
Reinigung und Vorbereitung
- Always handle with clean gloves or tools to prevent contamination and fingerprints.
- When heating, apply temperature changes gradually when possible, though quartz can withstand thermal shock better than standard glass.
- Store in clean, dust-free environment, preferably wrapped in lint-free paper or in dedicated storage containers.
- Avoid direct contact with hydrofluoric acid (HF), which is one of the few substances that can etch and damage quartz.
- For sterilization, quartz petri dishes can be autoclaved, dry heat sterilized, or flame sterilized without damage.
Need Custom Quartz Petri Dishes?
Warum eine Partnerschaft mit TOQUARTZ
Vorteil der direkten Fabrik
Als direkter Hersteller können wir die zahlreichen Zwischenstufen ausschalten.
Technische Kompetenz
Das technische Team begleitet die Kunden von der Materialauswahl bis zur Designoptimierung und setzt die Spezifikationen in Ergebnisse um.
Flexible Fertigung
Bearbeitung von Standard- und kundenspezifischen Aufträgen mit Hilfe von Kleinserien und Prototyping, um dringende Fristen einzuhalten.
Qualität
Versicherung
3-Stufen-Validierung vor dem Versand:
1. Maßhaltigkeit,
2. Materialreinheit ,
3. Leistungsschwellen
Globale Lieferkette
Zuverlässige globale Logistik zu den industriellen Zentren (Priorität DE/US/JP/KR) mit nachvollziehbaren Meilensteinen.
Wiederverwertete Produkte
Als spezialisierter Hersteller mit direkten Fertigungsmöglichkeiten bietet TOQUARTZ sowohl Standard- als auch kundenspezifische Quarzlösungen mit technischer Unterstützung während des gesamten Spezifikations- und Implementierungsprozesses.
FAQ
F: Was ist der Unterschied zwischen den Quarzglassorten JGS-1, JGS-2 und JGS-3?
A: JGS-1 ist ein UV-Quarz mit hohem OH-Gehalt (2000 PPM), der eine hervorragende Transmission bis zu 185 nm bietet. JGS-2 ist ein UV-Quarz mit moderatem OH-Gehalt (100-200 PPM), geeignet für Anwendungen im Bereich 220-2500μm. JGS-3 ist eine IR-Qualität mit minimalem OH-Gehalt, die für die Übertragung bei Wellenlängen von 260-3500μm optimiert ist. Die Wahl hängt von Ihren spezifischen Wellenlängenanforderungen ab.
F: Wie kann ich Quarzglasplatten reinigen, ohne sie zu beschädigen?
A: Verwenden Sie für optische Anwendungen Isopropylalkohol oder Aceton mit fusselfreien Tüchern. Für die allgemeine Reinigung wird eine milde Reinigungsmittellösung mit anschließendem gründlichen Abspülen mit entionisiertem Wasser empfohlen. Vermeiden Sie scheuernde Reinigungsmittel und Werkzeuge, die die Oberfläche zerkratzen könnten. Bei hartnäckigen Verschmutzungen ist eine Ultraschallreinigung in geeigneten Lösungen wirksam.
F: Sind Ihre Quarzglasplatten für Halbleiteranwendungen geeignet?
A: Unsere Quarzglasplatten erfüllen zwar viele Anforderungen für halbleiternahe Anwendungen, aber wir beliefern derzeit nicht die High-End-Halbleiterindustrie, die einen ultrahohen Reinheitsgrad (99,9999%) und spezielle Zertifizierungen erfordert. Unsere Produkte eignen sich für Forschungs-, Optik-, Labor- und Industrieanwendungen mit einem Reinheitsgrad von bis zu 99,995%.
F: Können Sie Löcher in Quarzglasplatten bohren oder individuelle Formen erstellen?
A: Ja, wir bieten Präzisionsbohr-, Schneid- und Bearbeitungsdienstleistungen für Quarzglasplatten an. Wir können kundenspezifische Formen, Löcher, Schlitze und andere Merkmale nach Ihren technischen Zeichnungen herstellen. Zu unseren Möglichkeiten gehören Wasserstrahlschneiden, Ultraschallbohren und Präzisionsschleifen, um komplexe Geometrien unter Beibehaltung der Materialintegrität zu erreichen.
F: Wie sind Quarzglasplatten im Vergleich zu Borosilikatglas?
A: Quarzglas bietet eine deutlich höhere Temperaturbeständigkeit (1100°C gegenüber 500°C bei Borosilikat), eine bessere UV-Durchlässigkeit, eine bessere chemische Beständigkeit und eine geringere Wärmeausdehnung. Borosilikat ist kostengünstiger für Anwendungen, die diese fortschrittlichen Eigenschaften nicht erfordern. Für Hochtemperatur-, optische oder chemisch anspruchsvolle Anwendungen ist Quarzglas die bessere Wahl.
Wenden Sie sich für technische Beratung und Preisgestaltung an unser Ingenieurteam. Wir helfen Ihnen bei der Auswahl der optimalen Spezifikationen für Ihre Anwendungsanforderungen.
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