1. Startseite
  2. /
  3. Typen
  4. /
  5. Quarzflasche
  6. /
  7. Maßgeschneiderte Quarz-Quelle...

Kundenspezifische Quarzglas-Quellflaschen für CVD/ALD-Systeme -TOQUARTZ®

TOQUARTZ® bietet hochreine Quarzvorläuferflaschen (bis zu 99,995% SiO₂), die speziell für CVD-, ALD- und MOCVD-Anwendungen entwickelt wurden. Unsere Precursor-Flaschen zeichnen sich durch hervorragende thermische Stabilität (bis zu 1200 °C), hervorragende chemische Beständigkeit und präzise Maßkontrolle aus. Diese Quarzbehälter sind wesentliche Bestandteile von Systemen zur chemischen Gasphasenabscheidung und anderen fortschrittlichen Materialverarbeitungsanlagen.
Kein MOQ
Kundenspezifisches Design
Fabrik direkt
Technische Unterstützung

Merkmale von Quarzglasflaschen

TOQUARTZ®-Quellflaschen aus hochreinem Quarzglas wurden speziell für Anwendungen entwickelt, die eine präzise Zufuhr von Ausgangsstoffen für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD), die Atomlagenabscheidung (ALD) und verwandte Prozesse erfordern. Jede einzelne Flasche wird aus hochwertigem Quarzmaterial hergestellt, um eine gleichbleibende Leistung in anspruchsvollen Umgebungen zu gewährleisten.

Materialeigenschaften

Design-Merkmale

Speziell entwickeltes Quarzblasensystem für die Zufuhr von ALD-Precursor mit präziser Durchflusskontrolle
TOQUARTZ® Quarzglas-Quellflaschen

Technische Daten der Quarzglasflasche

TOQUARTZ®-Quarzflaschen werden nach präzisen Spezifikationen hergestellt, um die hohen Anforderungen von CVD-, ALD- und MOCVD-Prozessen zu erfüllen. Nachfolgend finden Sie die detaillierten technischen Parameter unserer Quarzglasflaschen.

Physikalische Eigenschaften

ParameterWert / Beschreibung
Dichte2,2 g/cm³ - Gewährleistet mechanische Stabilität unter Vakuum und Temperaturwechsel
Maximale Arbeitstemperatur1200°C - Geeignet für die Hochtemperaturverdampfung von Vorstufen bei CVD/MOCVD
Widerstandsfähigkeit gegen thermische Schocks∆T ≥ 900°C - Widersteht schnellem Aufheizen/Abkühlen in gepulsten ALD-Zyklen
Wärmeausdehnungskoeffizient5,5 × 10-⁷ /°C (20-800°C) - Minimiert die Belastung beim thermischen Hochfahren
Wärmeleitfähigkeit1,4 W/m-K (bei 20°C) - Unterstützt die gleichmäßige Wärmeverteilung in den Vorläuferzonen

Chemische Eigenschaften

ParameterWert / Beschreibung
SiO₂-Gehalt≥99.99% - Verhindert Metallverunreinigungen in Sub-10nm Halbleiterprozessen
Spurenelemente insgesamt<10 ppm - Verifiziert durch GDMS für ultrareine Ablagerungsumgebungen
SäurebeständigkeitHervorragend (außer HF) - Kompatibel mit Halogenidvorläufern wie TiCl₄, WF₆
AlkalibeständigkeitGut unter 600°C - Geeignet für die Handhabung basenempfindlicher Vorprodukte

Optische Eigenschaften

ParameterWert / Beschreibung
Brechungsindex1.458 (bei 589,3 nm) - Ermöglicht die visuelle Überwachung der Vorläuferniveaus
UV-Transmission>80% (200-2000 nm) - Unterstützt optische Prüfung und UV-basierte Prozessdiagnose
IR-ÜbertragungGut bis zu 3,5 μm - Ermöglicht IR-Heizung und Überwachung in MOCVD-Anlagen
Hinweis: Wir bieten kundenspezifische Spezifikationen an, um Ihre spezifischen Anforderungen zu erfüllen. Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam für eine Beratung.

TOQUARTZ® löst die Herausforderungen im Labor mit Quarzglasflaschen

Quarzglas-Source-Flaschen für die Halbleiterherstellung

Bei der Halbleiterherstellung sind für die Zufuhr von Ausgangsstoffen extrem reine Behälter erforderlich, um Verunreinigungen zu vermeiden, die die Leistung der Geräte beeinträchtigen können. CVD- und Epitaxieverfahren verwenden Quarzglasflaschen zur Aufnahme und Abgabe von metallorganischen Verbindungen und anderen reaktiven Chemikalien. Diese Prozesse laufen bei hohen Temperaturen ab und erfordern Behälter, die ihre strukturelle Integrität beibehalten, während sie korrosive Materialien handhaben.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Ein US-amerikanischer Halbleiter-OEM hatte mit 12% Ausbeuteverlusten zu kämpfen, die auf eine Verunreinigung der Ausgangsstoffe bei der TiCl₄-basierten CVD zurückzuführen waren. TOQUARTZ lieferte Quarzglasflaschen mit <5 ppb impurity levels and halide-resistant polish. Yield improved by 9.4%, saving $27,000/month in wafer scrap.

Quarzglas-Precursor-Flaschen für Forschung und Entwicklung

Forschungseinrichtungen und Universitätslabors benötigen flexible, hochwertige CVD-Precursor-Behälter für experimentelle Arbeiten. Diese Einrichtungen benötigen oft kleine Chargen maßgeschneiderter Quarzglasflaschen für die Lieferung von ALD-Precursor, die je nach Forschungsfortschritt geändert werden können. Bei ihrer Arbeit werden häufig neue Materialien und Prozesse getestet, die spezielle Behälter mit einzigartigen Geometrien erfordern.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Ein europäisches Universitätslabor benötigte 3 einzigartige Quarz-Bubbler für die ALD von neuartigen 2D-Materialien. TOQUARTZ lieferte alle drei Entwürfe innerhalb von 2 Wochen und ermöglichte es dem Team, einen Meilenstein der Horizon 2020-Förderung zu erreichen und sich 120.000 € an weiterer Finanzierung zu sichern.

Quarzglasflaschen für die Produktion fortschrittlicher Materialien

Hersteller fortschrittlicher Materialien, die OLED-Komponenten, Photovoltaikzellen und spezielle Beschichtungen produzieren, benötigen konsistente Quarzbehälter für CVD-Vorprodukte in großen Mengen. Diese Produktionsumgebungen arbeiten kontinuierlich und erfordern zuverlässige Systeme für die Lieferung von Ausgangsstoffen, die Ausfallzeiten minimieren und den Ertrag maximieren. Die Herstellungsprozesse beinhalten oft giftige und ätzende Chemikalien, die sicher eingeschlossen und geliefert werden müssen.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Ein koreanischer Lieferant von OLED-Materialien hatte bei der Lieferung von POCl₃ Ausfallzeiten von 6 Stunden/Monat aufgrund von Bubbler-Ausfällen. TOQUARTZ ersetzte die Quellflaschen durch hochbelastbare Quarzeinheiten, wodurch sich die Lebensdauer um das 3,2-fache verlängerte und die Ausfallzeiten um 83% reduziert wurden, was Produktionsausfälle in Höhe von $18.000/Monat einsparte.

TOQUARTZ® Anpassungsdienste für Quarzglasflaschen

TOQUARTZ® ist spezialisiert auf die Entwicklung und Herstellung kundenspezifischer Quarzflaschen, die auf Ihre spezifischen Anforderungen für CVD-, ALD- oder MOCVD-Anwendungen zugeschnitten sind. Unser Ingenieurteam arbeitet direkt mit Ihrem technischen Personal zusammen, um Lösungen für die Zufuhr von Ausgangsstoffen zu entwickeln, die Ihren Abscheidungsprozess optimieren.

Design-Beratung

Unser Ingenieurteam analysiert Ihre Prozessanforderungen und erstellt technische Zeichnungen für kundenspezifische Quarzglasflaschen. Wir können bestehende Designs ändern oder völlig neue Konfigurationen erstellen, um die Abgabe von Ausgangsstoffen zu optimieren.

Entwicklung von Prototypen

Wir stellen funktionale Prototypen von kundenspezifischen Quarzglasflaschen für die Lieferung von ALD-Precursor mit kurzen Durchlaufzeiten her. Testen Sie Ihre Designkonzepte, bevor Sie sich auf Produktionsmengen festlegen, wobei die Lieferung von Prototypen in der Regel 2-3 Wochen dauert.

Produktion Fertigung

Sobald Ihr Entwurf fertiggestellt ist, gehen wir mit einer strengen Qualitätskontrolle in die Produktionsfertigung über. Wir halten die Spezifikationen über alle Chargen hinweg konstant und bieten flexible Produktionsmengen.

Hochreine Quarz-Precursor-Flaschen für CVD & ALD

Anpassungsoptionen

Verwendungsrichtlinien für Quarzglasflaschen

Die ordnungsgemäße Handhabung, Installation und Wartung von Quarzvorratsflaschen ist für die Gewährleistung einer optimalen Leistung und einer langen Lebensdauer bei CVD-, ALD- und anderen Abscheidungsprozessen unerlässlich. Die folgenden Richtlinien helfen Ihnen, den Wert Ihrer Quarz-Precursor-Zufuhrkomponenten zu maximieren.

Handhabung und Installation

Betrieb und Wartung

Sind Sie bereit, Ihr System zur Bereitstellung von Vorläufern zu optimieren?

Hochreine kundenspezifische Quarzglasflaschen für anspruchsvolle Anwendungen,
TOQUARTZ® liefert hochwertige Lösungen mit technischer Unterstützung und kurzen Durchlaufzeiten.

Warum eine Partnerschaft mit TOQUARTZ

Vorteil der direkten Fabrik

Als direkter Hersteller können wir die zahlreichen Zwischenstufen ausschalten.

Technische Kompetenz

Das technische Team begleitet die Kunden von der Materialauswahl bis zur Designoptimierung und setzt die Spezifikationen in Ergebnisse um.

Flexible Fertigung

Bearbeitung von Standard- und kundenspezifischen Aufträgen mit Hilfe von Kleinserien und Prototyping, um dringende Fristen einzuhalten.

Qualität
Versicherung

3-Stufen-Validierung vor dem Versand:
1. Maßhaltigkeit,
2. Materialreinheit ,
3. Leistungsschwellen

Globale Lieferkette

Zuverlässige globale Logistik zu den industriellen Zentren (Priorität DE/US/JP/KR) mit nachvollziehbaren Meilensteinen.

FAQ

F: Wofür wird eine Quarzglasflasche bei der CVD verwendet?

A: Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) wird eine Quarzflasche verwendet, um die chemischen Ausgangsstoffe, die die abgeschiedene Schicht bilden, aufzunehmen und zuzuführen. Die Konstruktion aus hochreinem Quarzglas verhindert Verunreinigungen und ermöglicht gleichzeitig eine kontrollierte Verdampfung oder Durchströmung des Vorläufers mit Trägergas, um ihn in die Reaktionskammer zu transportieren.

A: Ja, hochreines Quarzglas bietet eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen die meisten korrosiven Chemikalien, einschließlich starker Säuren (außer HF), Basen unter 600 °C und Halogenverbindungen, die üblicherweise als Ausgangsstoffe verwendet werden. Diese chemische Stabilität verhindert eine Verunreinigung des Ausgangsmaterials und gewährleistet eine gleichbleibende Abscheidungsqualität.

A: TOQUARTZ®-Quarzglasflaschen können Dauerbetriebstemperaturen von bis zu 1200 °C standhalten. Das Material behält seine strukturelle Integrität und chemische Inertheit bei diesen Temperaturen bei und eignet sich daher ideal für Hochtemperaturanwendungen in CVD- und ALD-Prozessen, bei denen Ausgangsstoffe eingesetzt werden.

A: Ja, Quarzflaschen können speziell für feste Ausgangsstoffe entwickelt werden. Diese Konstruktionen weisen in der Regel breitere Öffnungen für die Beladung, spezielle Heizzonen zur Steuerung der Sublimation und Gasströmungswege auf, die den sublimierten Ausgangsstoff effizient in die Reaktionskammer leiten.

A: Ja, TOQUARTZ® ist spezialisiert auf kundenspezifische Quarzflaschen für die Zufuhr von ALD-Precursor, die den genauen Systemspezifikationen entsprechen. Wir können kundenspezifische Einlasskonfigurationen, Gasverteilungssysteme, Heizzonen und Anschlusstypen erstellen, um die Precursor-Zufuhr für Ihre spezifischen ALD-Prozessanforderungen zu optimieren.

Wenden Sie sich für technische Beratung und Preisgestaltung an unser Ingenieurteam. Wir helfen Ihnen bei der Auswahl der optimalen Spezifikationen für Ihre Anwendungsanforderungen.

de_DEDeutsch
Nach oben blättern

Jetzt ein schnelles Angebot anfordern

Sagen Sie uns, was Sie brauchen - Sie erhalten maßgeschneiderte Preise und Vorlaufzeiten innerhalb von 6 Stunden.

* Prüfen Sie die E-Mail nach dem Absenden. Nicht erhalten? Überprüfen Sie die Adresse.