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Maßgeschneiderte prozessoptimierte Quarz-Ätzringe für Halbleiter-Plasmakammern - TOQUARTZ®

TOQUARTZ® stellt hochwertige Quarz-Ätzringe (auch bekannt als Quarz-Prozessringe) her, die speziell für Halbleiter-Plasmaätzanlagen entwickelt wurden. Unsere Ringe zeichnen sich durch eine Reinheit von 99,99% SiO₂, präzise Maßtoleranz (±0,1 mm), ausgezeichnete thermische Stabilität (bis zu 1600 °C) und hervorragende chemische Beständigkeit gegen aggressive Ätzumgebungen aus. Diese kritischen Komponenten tragen dazu bei, die Prozessstabilität aufrechtzuerhalten, Verunreinigungen zu vermeiden und eine hohe Ausbeute bei der Halbleiterherstellung zu gewährleisten.
Kein MOQ
Kundenspezifisches Design
Fabrik direkt
Technische Unterstützung

Merkmale des Quarzätzrings

TOQUARTZ®-Halbleiter-Quarzringe wurden speziell für Plasmaätzanlagen entwickelt und bieten außergewöhnliche Eigenschaften, die stabile Prozessbedingungen und eine lange Lebensdauer in anspruchsvollen Halbleiterfertigungsumgebungen gewährleisten.

Materielle Reinheit

Hergestellt aus hochwertigem Quarz mit einer Reinheit von 99,99% SiO₂ (bis zu 99,995% erhältlich), wodurch mögliche Verunreinigungen in kritischen Halbleiterprozessen minimiert werden.

Thermische Stabilität

Widersteht extremen Temperaturen bis zu 1600°C bei minimaler thermischer Ausdehnung (Koeffizient: 0,5×10-⁶/K) und gewährleistet Dimensionsstabilität während der thermischen Zyklen bei Plasmaätzprozessen.

Prozess-Kompatibilität

Speziell für Halbleiter-Ätzprozesse, einschließlich ICP-, RIE- und DRIE-Systeme, mit optimierten Abmessungen für verschiedene Kammerkonfigurationen.

Quarzkammerring für Plasmaätzgeräte
TOQUARTZ® Fused Quartz Ätzring

Technische Daten und Abmessungen des Quarzätzrings

TOQUARTZ®-Quarz-Ätzringe werden nach genauen Spezifikationen hergestellt, die für Halbleiterverarbeitungsanlagen erforderlich sind, und zeichnen sich durch kontrollierte physikalische, chemische und thermische Eigenschaften aus.

Technische Daten des Quarz-Ätzrings

EigentumWertAnmerkungen
MaterialHochreiner Quarz99,99% SiO₂ Standard (bis zu 99,995% verfügbar)
Dichte2,2 g/cm³±0,02 g/cm³
Biegefestigkeit48 MPaBei Raumtemperatur
Elastischer Modul72 GPaElastizitätsmodul
Querkontraktionszahl0.14-0.17
Druckfestigkeit1100 MPaBei Raumtemperatur
Mohs-Härte5.5-6.5
Maximale Betriebstemperatur (Langzeit)1100°CKontinuierlicher Betrieb
Maximale Betriebstemperatur (kurzzeitig)1350°CIntermittierende Exposition
Wärmeleitfähigkeit1,4 W/m-KBei 20°C
Wärmeausdehnungskoeffizient5.5×10-⁷/°CBereich 20-1000°C
Spezifische Resistenz7×10⁷ Ω-cmBei 20°C
OberflächenrauhigkeitRa≤0.8μmStandardausführung

Größentabelle von Fused Quartz Etching Ring

ModellSpezifikationÄußerer Durchmesser (mm)Dicke (mm)Reinheit (%)
AT-TAZ-ER0012-Zoll50.8399.99
AT-TAZ-ER0024-Zoll101.6499.99
Hinweis: Wir bieten kundenspezifische Spezifikationen an, um Ihre spezifischen Anforderungen zu erfüllen. Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam für eine Beratung.

TOQUARTZ® löst die Herausforderungen beim Ätzen von Halbleitern
mit Quarz-Ringen

Quarz-Ätzringe in hochvolumigen Halbleiterfabriken: Verhinderung kostspieliger Ausfallzeiten der Produktionslinie

Große Halbleiterproduktionsanlagen arbeiten rund um die Uhr, und jeder Ausfall kann Hunderttausende von Dollar pro Tag kosten. Plasmaätzkammern müssen regelmäßig gewartet und Komponenten ausgetauscht werden, um Prozessstabilität und Ausbeute zu gewährleisten. Wenn die Quarzringe der Ätzkammern vorzeitig ausfallen oder für geplante Wartungsarbeiten nicht zur Verfügung stehen, können ganze Produktionslinien stillstehen.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Eine US-amerikanische 12-Zoll-DRAM-Fabrik, die rund um die Uhr arbeitet, meldete Verluste von $220.000/Tag aufgrund ungeplanter Ausfälle von Ätzringen.
TOQUARTZ® führte einen rollierenden 90-Tage-Nachschubplan und einen Notvorratspuffer ein. Innerhalb von 6 Monaten sanken die Ausfallzeiten um 83%, und ringbedingte Prozessunterbrechungen wurden eliminiert.
Mit TOQUARTZ als einzigem Ringlieferanten erreicht die Fabrik jetzt eine Betriebszeit von 99,9% in ihrem Ätzmodul.

Geschmolzene Quarz-Ätzringe für kundenspezifische Gerätehersteller: Genaue Einhaltung der Maßanforderungen

Die Hersteller von Halbleiter-Ätzanlagen entwickeln eigene Kammerkonfigurationen, die kundenspezifische Quarzringe mit spezifischen Abmessungen, Befestigungslöchern und Toleranzen erfordern. Viele Lieferanten haben Schwierigkeiten, die Konsistenz über mehrere Produktionschargen hinweg aufrechtzuerhalten, was zu Dichtungsfehlern, Prozessabweichungen und Ausschussraten von bis zu 12% führt.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Ein deutscher OEM benötigte 6-Zoll-Quarzringe mit 6 asymmetrischen Montagebohrungen und einer Toleranz von ±0,1 mm. Frühere Lieferanten hatten eine Rückweisungsrate von 12% aufgrund von Fehlausrichtung der Löcher und Kantenausbrüchen.
TOQUARTZ® lieferte 300 Ringe mit 0% Ablehnung und <0.03mm deviation verified by CMM reports. The OEM reduced assembly rework time by 40% and signed a 2-year supply agreement.

Quarzglas-Ätzringe für die fortgeschrittene Prozessentwicklung: Anforderungen an die Materialreinheit

Forschungs- und Entwicklungslabors, die Halbleiterprozesse der nächsten Generation entwickeln, benötigen extrem hochreine Quarz-Ätzringe, die aggressiven chemischen Umgebungen standhalten können, ohne empfindliche Prozesse zu verunreinigen. Metallspuren in den Kammern können die Leistung und Ausbeute von Bauteilen in fortschrittlichen Knotenpunkttechnologien erheblich beeinträchtigen.

Die wichtigsten Vorteile

TOQUARTZ®-Lösung

Ein japanisches Forschungs- und Entwicklungslabor, das 3-nm-Logikknoten entwickelt, benötigte hochreine Quarzringe für das CF₄-basierte Ätzen.
TOQUARTZ® liefert Ringe mit einem Metallgehalt von ≤8ppb und <3 pcscm² surface particles.
Nach 72 Stunden Plasmaexposition wurde keine strukturelle Verschlechterung oder Verunreinigung festgestellt.
Das Labor meldete einen Rückgang der durch Partikel verursachten Defekte um 92% im Vergleich zu früheren Anbietern.

TOQUARTZ® Anpassungsdienste für Quarz-Ätz-Ringe

TOQUARTZ® bietet umfassende kundenspezifische Dienstleistungen für Halbleiter-Quarzringe an, die Ihre spezifischen Anforderungen an die Ausrüstung und Prozessbedingungen unterstützen.

Individuelle Gestaltungsmöglichkeiten

Benutzerdefinierter Bestellprozess

Richtlinien für die Verwendung und Pflege des Quarzätzrings

Die richtige Handhabung, Installation und Wartung von Prozessringen aus Quarzglas ist entscheidend für die Maximierung der Leistung und Lebensdauer bei Halbleiterätzanwendungen.

Handhabung und Installation

Wartung und Ersatz

Empfehlungen zur Lagerung

Benötigen Sie technische Unterstützung für Quarz-Ätz-Ringe?

TOQUARTZ®-Ingenieure bieten kostenlose Beratungen für Ihre Quarz-Ätzring-Anwendungen an.

Warum eine Partnerschaft mit TOQUARTZ

Vorteil der direkten Fabrik

Als direkter Hersteller können wir die zahlreichen Zwischenstufen ausschalten.

Technische Kompetenz

Das technische Team begleitet die Kunden von der Materialauswahl bis zur Designoptimierung und setzt die Spezifikationen in Ergebnisse um.

Flexible Fertigung

Bearbeitung von Standard- und kundenspezifischen Aufträgen mit Hilfe von Kleinserien und Prototyping, um dringende Fristen einzuhalten.

Qualität
Versicherung

3-Stufen-Validierung vor dem Versand:
1. Maßhaltigkeit,
2. Materialreinheit ,
3. Leistungsschwellen

Globale Lieferkette

Zuverlässige globale Logistik zu den industriellen Zentren (Priorität DE/US/JP/KR) mit nachvollziehbaren Meilensteinen.

FAQ

F: Wofür wird ein Quarz-Ätzring in der Halbleiterherstellung verwendet?

A: Quarz-Ätzringe (auch Quarz-Prozessringe genannt) sind wichtige Komponenten in Plasma-Ätzanlagen, die in der Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Sie dienen als Abstandshalter zwischen der Plasmakammer und dem zu ätzenden Substrat und tragen dazu bei, das Plasma einzuschließen und zu lenken, die Gleichmäßigkeit des Prozesses aufrechtzuerhalten und Verunreinigungen zu verhindern. Durch ihre hohe Reinheit, thermische Stabilität und chemische Beständigkeit sind sie ideal für die aggressiven Plasmaumgebungen geeignet, die beim Ätzen von Wafern verwendet werden.

A: Quarzringe verbessern die Plasmaätzverfahren in mehrfacher Hinsicht:

(1) Sie tragen zur Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Plasmaumgebung bei, indem sie für präzise Abstände und Ausrichtungen innerhalb der Kammer sorgen,
(2) Ihre hohe Reinheit verhindert Metallverunreinigungen, die die Leistung von Halbleiterbauelementen beeinträchtigen könnten,
(3) Ihre thermische Stabilität gewährleistet Maßhaltigkeit bei Temperaturschwankungen;
(4) Ihre elektrisch isolierenden Eigenschaften tragen dazu bei, die Verteilung des Plasmas zu kontrollieren.

Diese Vorteile tragen insgesamt zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit des Ätzens, einer höheren Prozessausbeute und einer gleichmäßigeren Leistung der Bauteile bei.

A: Quarzringe zum Ätzen von Halbleitern müssen strenge Materialanforderungen erfüllen:

(1) Hohe Reinheit (in der Regel 99,99% SiO₂ oder höher), um Verunreinigungen zu vermeiden,
(2) Hervorragende thermische Stabilität, die Prozesstemperaturen bis zu 1600°C standhält,
(3) Hervorragende chemische Beständigkeit gegen korrosive Gase und Plasma,
(4) Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient für Dimensionsstabilität,
(5) Gleichbleibende Materialeigenschaften mit minimalen Fehlern oder Einschlüssen,
(6) Präzise Maßtoleranzen, typischerweise ±0,1 mm oder besser.

Diese Anforderungen gewährleisten Prozesssicherheit und verhindern Ausbeuteverluste bei der Waferherstellung.

A: Ja, unsere Quarz-Ätzringe sind mit fluorbasierten Ätzverfahren kompatibel, die üblicherweise in der Halbleiterfertigung eingesetzt werden. Unsere hochreine Quarzformulierung bietet eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen fluorierte Gase wie CF₄, SF₆, NF₃ und CHF₃. Während alle Quarze in Fluorplasma-Umgebungen eine gewisse allmähliche Erosion erfahren, zeigen TOQUARTZ-Ringe eine überragende Haltbarkeit mit Erosionsraten, die typischerweise 20-30% niedriger sind als bei handelsüblichem Quarz. Für besonders aggressive Fluorprozesse können wir optimierte Zusammensetzungen und Dicken empfehlen, um die Lebensdauer zu maximieren.

A: Quarz-Ätzringe und keramische Alternativen (in der Regel Aluminiumoxid oder Aluminiumnitrid) haben jeweils deutliche Vorteile: Quarz bietet eine überragende Reinheit (99,99%+ SiO₂), eine hervorragende Transparenz für die optische Überwachung, eine geringere Partikelbildung und eine sehr geringe Wärmeausdehnung. Keramik bietet in der Regel eine bessere mechanische Festigkeit, eine höhere Wärmeleitfähigkeit und in einigen Fällen eine bessere Beständigkeit gegen bestimmte Plasmachemikalien. Die Wahl hängt von den Prozessanforderungen ab - Quarz wird im Allgemeinen für Anwendungen bevorzugt, die hohe Reinheit, optische Klarheit und minimale Wärmeausdehnung erfordern, während Keramik für Anwendungen gewählt werden kann, die eine höhere strukturelle Festigkeit oder ein besseres Wärmemanagement erfordern.

Wenden Sie sich für technische Beratung und Preisgestaltung an unser Ingenieurteam. Wir helfen Ihnen bei der Auswahl der optimalen Spezifikationen für Ihre Anwendungsanforderungen.

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