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Tanque de limpeza com ácido de quartzo integrado ao processo personalizado para aplicações em semicondutores e PV -TOQUARTZ®.
Projetado para limpeza de pastilhas semicondutoras, gravação de células fotovoltaicas e aplicações de processamento químico em laboratório que exigem excepcional resistência à corrosão por HF, HCl e HNO₃.
Recursos do tanque de limpeza com ácido de quartzo
Pureza ultra-alta
A pureza de 99,99% SiO₂ garante o mínimo de contaminação em processos críticos de semicondutores. O rigoroso controle de qualidade e o processamento em sala limpa minimizam as impurezas e a contaminação por partículas.
Resistência química
Resistência excepcional a todos os ácidos, inclusive HF, HCl, HNO₃ e outros produtos químicos agressivos usados no processamento úmido de semicondutores. Não há degradação do material mesmo após exposição prolongada a ácidos concentrados.
Alta estabilidade térmica
Faixa de temperatura operacional de até 1100°C para uso de longo prazo e 1300°C para aplicações de curto prazo. O baixo coeficiente de expansão térmica (5,5×10-⁷/°C) garante a estabilidade dimensional durante as flutuações de temperatura.
Transparência óptica
A excelente transparência óptica (transmissão ≥93%) permite o monitoramento do processo e a inspeção visual durante a operação. Permite a integração com sensores ópticos para controle e automação de processos.
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Contaminação iônica ultrabaixa
liberação
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Matriz de SiO₂ estável sob condições térmico-ácidas
ciclismo
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Clareza visual para
monitoramento de reações in-situ
Especificações técnicas do tanque de limpeza química de quartzo
Especificações técnicas do tanque de limpeza com ácido para vidro de quartzo
| Propriedade | Valor |
| Composição do material | Quartzo de alta pureza (≥99,99% SiO₂) |
| Densidade | 2,2 g/cm³ |
| Resistência à flexão | 48 MPa |
| Módulo elástico | 72 GPa |
| Índice de Poisson | 0.14-0.17 |
| Resistência à compressão | 1100 MPa |
| Resistência à flexão | 67 MPa |
| Dureza de Mohs | 5.5-6.5 |
| Temperatura máxima de trabalho (longo prazo) | 1100°C |
| Temperatura máxima de trabalho (curto prazo) | 1300°C |
| Condutividade térmica | 1,4 W/m-K |
| Índice de refração | 1.4585 |
| Coeficiente de expansão térmica | 5.5×10-⁷/°C |
| Resistência específica | 7×10⁷ Ω-cm |
| Transmissão óptica (1 mm de espessura, 280-780 nm) | ≥93% |
Dimensões personalizadas do tanque de limpeza com ácido de quartzo fundido
A TOQUARTZ® pode acomodar especificações personalizadas com base nos requisitos do cliente. Entre em contato com nossa equipe de engenharia para obter especificações dimensionais detalhadas e opções de tamanhos personalizados.
Solução de desafios críticos com o recipiente para banho ácido de quartzo TOQUARTZ®.
Tanques de limpeza com ácido de quartzo para processamento de wafer semicondutor
Principais vantagens
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Liberação ultrabaixa de contaminação iônica
Liberação de tanques de quartzo TOQUARTZ <0.1 ppb of Na⁺, K⁺, and Al³⁺ ions after 72h HF/HCl exposure at 80°C. -
Sem degradação da superfície sob exposição a ácidos mistos
A rugosidade da superfície (Ra) permanece <0.02μm after 96h in HNO₃/HF/HCl mixture at 100°C. -
Matriz de SiO₂ estável sob ciclo térmico-ácido
Não foi observada nenhuma propagação de microfissuras após 50 ciclos de imersão em ácido a 100°C e resfriamento ambiente.
Solução TOQUARTZ
Uma fábrica japonesa de wafer de 300 mm relatou contaminação por íons metálicos (>0,5 ppb de Al³⁺) de tanques de quartzo locais após 48 horas de uso de HF/HCl, levando à perda de rendimento do wafer de 3,2%.
Os tanques de limpeza com ácido fornecidos pela TOQUARTZ® foram verificados <0.1 ppb ion leaching (SGS test), reducing wafer surface contamination by 87% and restoring yield to 99.1% within 2 weeks of deployment.
Tanque de limpeza química de quartzo para limpeza e texturização de células fotovoltaicas
Principais vantagens
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Sem corrosão da superfície induzida por ácido após 100 horas
Os tanques TOQUARTZ® não apresentam corrosão visível após 100 horas em 10% HNO₃ a 90°C. -
Estável sob texturização alcalina a 85°C
Sem descamação ou descoloração do SiO₂ após 72 horas em solução de NaOH/KOH a 85°C. -
Mantém a estabilidade do pH do banho ácido
Desvio de pH <0.2 over 48h in HF/HNO₃ mix, ensuring consistent etching rate.
Solução TOQUARTZ
Uma linha alemã de módulos fotovoltaicos que usa tanques de borossilicato viu o pH do banho de ácido variar mais de 0,5 em 24 horas, causando texturização irregular e queda na eficiência da célula 5%.
Os tanques de quartzo TOQUARTZ® mantiveram a estabilidade do pH em ±0,2 durante 48 horas, permitindo uma gravação uniforme e restaurando a eficiência média das células de 18,3% para 19,1% em três lotes de produção.
Recipientes para Banho de Ácido de Quartzo para Laboratórios de Pesquisa
Principais vantagens
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Compatível com 98% de ácidos e solventes de nível laboratorial
Os tanques TOQUARTZ® se mostraram estáveis em mais de 30 reagentes, incluindo HF, água régia e ácido perclórico. -
Clareza visual para monitoramento de reações in-situ
A transmissão de luz ≥93% (280-780nm) permite a observação em tempo real de reações colorimétricas. -
Nenhuma lixiviação detectável na análise de traços
<0.05 ppb total leachables after 48h in 10% HCl at 60°C (ICP-MS verified).
Solução TOQUARTZ
Um laboratório de uma universidade canadense que realiza análises de traços de metais em HF/HCl relatou uma contaminação de Al de fundo >0,3 ppb em tanques de sílica fundida.
Após a mudança para os recipientes de banho ácido TOQUARTZ® , a linha de base do ICP-MS caiu para <0.05 ppb, enabling accurate detection of sub-ppb analytes and improving experimental reproducibility by 92%.
Serviços de personalização TOQUARTZ® para tanque de limpeza ácida de vidro de quartzo
Personalização do design
- Dimensões personalizadas com tolerâncias de precisão
- Configurações especializadas de entrada/saída para integração de processos
- Divisórias internas ou câmaras para processamento em vários estágios
- Bordas ou cantos reforçados para maior integridade estrutural
- Espessura de parede personalizada com base em requisitos térmicos ou estruturais
- Recursos de montagem integrados para compatibilidade de equipamentos
Especificações do material
- Quartzo padrão de alta pureza (99,99% SiO₂)
- Opções de quartzo opaco para aplicações sensíveis à luz
- Tratamentos de superfície para maior resistência química
- Superfícies polidas com precisão para aplicações críticas de vedação
- Bordas polidas a fogo para maior resistência mecânica
- Certificações de materiais personalizados para setores regulamentados
Processo de desenvolvimento personalizado
Análise de requisitos
- A equipe técnica da TOQUARTZ trabalha com você para entender seus requisitos específicos de processo, ambiente químico, faixas de temperatura e restrições dimensionais.
Proposta de design
- Desenvolvemos desenhos técnicos detalhados e especificações com base em seus requisitos, muitas vezes fornecendo várias opções de projeto para consideração.
Desenvolvimento de protótipos
- Para projetos complexos ou novos, podemos produzir unidades de protótipo para teste e validação em seu ambiente de processo antes da produção em escala total.
Produção
- Os projetos aprovados passam para a produção com rigoroso controle de qualidade em todo o processo de fabricação para garantir a precisão dimensional e a integridade do material.
Verificação de qualidade
- Cada tanque acabado passa por uma inspeção abrangente, incluindo verificação dimensional, inspeção visual e testes de materiais, conforme exigido pelas especificações.
Diretrizes de uso do tanque de limpeza com ácido de quartzo
Manuseio e instalação
- Manuseie com cuidado para evitar impactos ou mudanças bruscas de temperatura que possam causar fraturas.
- Instale em superfícies niveladas e estáveis, usando acessórios de suporte adequados para distribuir o peso uniformemente.
- Ao montar, use PTFE ou juntas compatíveis para evitar o contato direto com superfícies metálicas.
- Deixe uma folga de pelo menos 5 mm ao redor do tanque para a expansão térmica durante processos aquecidos.
- Para conexões de entrada/saída, use somente conexões compatíveis projetadas para componentes de quartzo.
Condições operacionais
- Não exceda a temperatura máxima de operação de 1100 °C para uso prolongado ou 1300 °C para aplicações de curto prazo.
- Mantenha as taxas de aumento de temperatura abaixo de 5°C/minuto para evitar choque térmico.
- Em aplicações aquecidas, garanta uma distribuição uniforme do aquecimento para evitar tensões localizadas.
- Ao usar com soluções alcalinas, evite o contato com compostos de potássio ou sódio em altas temperaturas, o que pode reduzir significativamente o desempenho.
- Para obter a integridade ideal da vedação em aplicações de processamento úmido, verifique se todos os pontos de conexão mantêm as tolerâncias especificadas.
Manutenção e limpeza
- Após o uso, enxágue bem com água deionizada para remover os resíduos químicos.
- Para contaminantes persistentes, use solventes apropriados seguidos de limpeza ultrassônica em água deionizada.
- Inspecione regularmente quanto a microfissuras ou degradação da superfície, principalmente nos pontos de conexão de fluido.
- Armazene em ambientes limpos e sem poeira para manter a integridade da superfície e evitar contaminação.
- Para armazenamento de longo prazo, cubra as aberturas com materiais limpos de PTFE ou polietileno.
Precisa de assistência técnica com tanques de limpeza com ácido de quartzo?
Por que fazer parceria com a TOQUARTZ?
Vantagem da fábrica direta
Como fabricante direto, podemos eliminar os inúmeros elos intermediários.
Especialização em engenharia
A equipe técnica orienta os clientes desde a seleção do material até a otimização do projeto, traduzindo as especificações em produtos.
Fabricação flexível
Atendimento de pedidos padrão e personalizados por meio de experiência em pequenos lotes e rigor na criação de protótipos para cumprir prazos urgentes.
Qualidade
Garantia
Validação em três etapas antes da remessa:
1. precisão dimensional,
2. pureza do material,
3. limites de desempenho
Cadeia de suprimentos global
Logística global confiável para centros industriais (prioridade DE/US/JP/KR) com marcos rastreáveis.
Produtos liberados
Como um fabricante especializado com recursos de fábrica direta, a TOQUARTZ fornece soluções de quartzo padrão e personalizadas com suporte de engenharia durante todo o processo de especificação e implementação.
PERGUNTAS FREQUENTES
P: Qual é a temperatura máxima que os tanques de limpeza com ácido de quartzo podem suportar?
R: Os tanques de limpeza com ácido de quartzo TOQUARTZ® podem suportar temperaturas de até 1100°C para operação contínua de longo prazo e de até 1350°C para aplicações de curto prazo. A estabilidade térmica garante a consistência dimensional mesmo durante o ciclo térmico, com um baixo coeficiente de expansão térmica de 5,5×10-⁷/°C.
P: Que tipos de ácidos são compatíveis com seus tanques de quartzo?
R: Os tanques de limpeza ácida de quartzo TOQUARTZ® são compatíveis com praticamente todos os ácidos usados na fabricação de semicondutores e fotovoltaicos, incluindo ácido fluorídrico (HF), ácido clorídrico (HCl), ácido nítrico (HNO₃), ácido sulfúrico (H₂SO₄), ácido fosfórico (H₃PO₄) e várias misturas de ácidos. Eles mantêm sua integridade estrutural e pureza mesmo após exposição prolongada a ácidos concentrados em temperaturas elevadas.
P: Qual é o nível de pureza do material de quartzo usado em seus tanques de limpeza com ácido?
R: Os tanques de limpeza ácida de quartzo padrão TOQUARTZ® são fabricados com quartzo de alta pureza contendo ≥99,99% SiO₂. Esse nível de pureza garante contaminação mínima em processos críticos de semicondutores e fotovoltaicos. O material tem níveis excepcionalmente baixos de impurezas alcalinas e metálicas, o que o torna ideal para aplicações em que o controle da contaminação é crucial para o rendimento e o desempenho do processo.
P: Como devo limpar e manter os tanques de limpeza com ácido de quartzo para maximizar a vida útil?
R: Para maximizar a vida útil dos tanques de limpeza ácida de quartzo: 1) Enxágue bem com água desionizada após cada uso; 2) Para resíduos persistentes, use solventes apropriados seguidos de limpeza ultrassônica; 3) Evite choque térmico mantendo as taxas de rampa abaixo de 5°C/minuto; 4) Manuseie com cuidado para evitar impacto mecânico; 5) Armazene em ambientes limpos com as portas cobertas; e 6) Inspecione regularmente se há microfissuras ou degradação da superfície. Com a manutenção adequada, os tanques de quartzo podem proporcionar anos de serviço confiável em ambientes exigentes de semicondutores.
P: Como os tanques de limpeza ácida de quartzo se comparam aos tanques de PTFE ou PFA para aplicações em semicondutores?
R: Embora o PTFE e o PFA ofereçam excelente resistência química, os tanques de limpeza ácida de quartzo oferecem várias vantagens distintas para aplicações de semicondutores: 1) Resistência superior à temperatura (até 1100°C contra ~260°C para fluoropolímeros), 2) Melhor estabilidade dimensional sob ciclos térmicos, 3) Maior rigidez para manter geometrias precisas, 4) Maior transparência para monitoramento de processos e 5) Menor geração de partículas e emissão de gases. O quartzo é particularmente vantajoso para processos ácidos de alta temperatura comuns na fabricação de semicondutores avançados.
Entre em contato com nossa equipe de engenharia para obter consultoria técnica e preços. Nós o ajudaremos a selecionar as especificações ideais para os requisitos de sua aplicação.
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