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Tanque de limpieza con ácido de cuarzo integrado en el proceso a medida para aplicaciones de semiconductores y fotovoltaicas -TOQUARTZ
Diseñado para la limpieza de obleas semiconductoras, grabado de células fotovoltaicas y aplicaciones de procesamiento químico de laboratorio que requieren una resistencia excepcional a la corrosión por HF, HCl y HNO₃.
Características del depósito de limpieza de ácido de cuarzo
Pureza ultra alta
La pureza del 99,99% SiO₂ garantiza una contaminación mínima en los procesos críticos de semiconductores. El estricto control de calidad y el procesamiento en sala blanca minimizan las impurezas y la contaminación por partículas.
Resistencia química
Resistencia excepcional a todos los ácidos, incluidos HF, HCl, HNO₃ y otros productos químicos agresivos utilizados en el procesamiento húmedo de semiconductores. El material no se degrada ni siquiera tras una exposición prolongada a ácidos concentrados.
Alta estabilidad térmica
Rango de temperaturas de funcionamiento de hasta 1100°C para uso a largo plazo y 1300°C para aplicaciones a corto plazo. El bajo coeficiente de dilatación térmica (5,5×10-⁷/°C) garantiza la estabilidad dimensional durante las fluctuaciones de temperatura.
Transparencia óptica
La excelente transparencia óptica (transmisión ≥93%) permite la supervisión del proceso y la inspección visual durante el funcionamiento. Permite la integración con sensores ópticos para el control y la automatización de procesos.
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Contaminación iónica ultrabaja
liberar
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Matriz de SiO₂ estable en condiciones térmicas y ácidas
ciclismo
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Claridad visual para
control de reacciones in situ
Especificaciones Tecnológicas de Tanque de Limpieza Química de Cuarzo
Especificaciones técnicas del depósito de cuarzo para la limpieza de vidrio con ácido
| Propiedad | Valor |
| Composición del material | Cuarzo de gran pureza (≥99,99% SiO₂) |
| Densidad | 2,2 g/cm³ |
| Resistencia a la flexión | 48 MPa |
| Módulo elástico | 72 GPa |
| Relación de Poisson | 0.14-0.17 |
| Resistencia a la compresión | 1100 MPa |
| Resistencia a la flexión | 67 MPa |
| Dureza Mohs | 5.5-6.5 |
| Temperatura máxima de trabajo (larga duración) | 1100°C |
| Temperatura máxima de trabajo (a corto plazo) | 1300°C |
| Conductividad térmica | 1,4 W/m-K |
| Índice de refracción | 1.4585 |
| Coeficiente de dilatación térmica | 5.5×10-⁷/°C |
| Resistencia específica | 7×10⁷ Ω-cm |
| Transmisión óptica (1 mm de grosor, 280-780 nm) | ≥93% |
Dimensiones personalizadas del depósito de cuarzo fundido para limpieza con ácido
TOQUARTZ® puede adaptarse a especificaciones personalizadas basadas en los requisitos del cliente. Póngase en contacto con nuestro equipo de ingeniería para obtener especificaciones dimensionales detalladas y opciones de tamaño personalizadas.
Solución de problemas críticos con el contenedor de baño ácido de cuarzo TOQUARTZ
Tanques de limpieza con ácido de cuarzo para el procesamiento de obleas de semiconductores
Principales ventajas
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Liberación ultrabaja de contaminación iónica
Liberación de depósitos de cuarzo TOQUARTZ <0.1 ppb of Na⁺, K⁺, and Al³⁺ ions after 72h HF/HCl exposure at 80°C. -
Sin degradación de la superficie bajo exposición ácida mixta
La rugosidad de la superficie (Ra) permanece <0.02μm after 96h in HNO₃/HF/HCl mixture at 100°C. -
Matriz estable de SiO₂ sometida a ciclos térmico-ácidos.
No se observó propagación de microfisuras tras 50 ciclos de inmersión en ácido a 100°C y enfriamiento a temperatura ambiente.
Solución TOQUARTZ
Una fábrica japonesa de obleas de 300 mm informó de la contaminación por iones metálicos (>0,5 ppb Al³⁺) de los tanques de cuarzo locales tras 48 horas de uso de HF/HCl, lo que provocó una pérdida de rendimiento de obleas de 3,2%.
TOQUARTZ® suministró tanques de limpieza con ácido verificados <0.1 ppb ion leaching (SGS test), reducing wafer surface contamination by 87% and restoring yield to 99.1% within 2 weeks of deployment.
Tanque de limpieza química de cuarzo para limpieza y texturización de células fotovoltaicas
Principales ventajas
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Sin picaduras superficiales inducidas por ácido tras 100 h
Los depósitos TOQUARTZ® muestran una corrosión visible nula tras 100h en 10% HNO₃ a 90°C. -
Estable bajo texturización alcalina a 85°C
Sin descamación ni decoloración del SiO₂ tras 72h en solución NaOH/KOH a 85°C. -
Mantiene la estabilidad del pH del baño ácido
Desviación del pH <0.2 over 48h in HF/HNO₃ mix, ensuring consistent etching rate.
Solución TOQUARTZ
En una línea alemana de módulos fotovoltaicos que utiliza tanques de borosilicato, el pH del baño ácido varió >0,5 en 24 horas, lo que provocó un texturizado desigual y una caída de la eficiencia de las células 5%.
Los tanques de cuarzo TOQUARTZ® mantuvieron la estabilidad del pH dentro de ±0,2 durante 48h, permitiendo un grabado uniforme y restaurando la eficiencia celular media de 18,3% a 19,1% a través de 3 lotes de producción.
Recipientes de cuarzo para baños ácidos para laboratorios de investigación
Principales ventajas
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Compatible con 98% de ácidos y disolventes de laboratorio
Los depósitos TOQUARTZ® se han probado estables en más de 30 reactivos, incluyendo HF, agua regia y ácido perclórico. -
Claridad visual para el control de reacciones in situ
La transmisión de luz ≥93% (280-780nm) permite la observación en tiempo real de las reacciones colorimétricas. -
Lixiviación no detectable en análisis de trazas
<0.05 ppb total leachables after 48h in 10% HCl at 60°C (ICP-MS verified).
Solución TOQUARTZ
Un laboratorio universitario canadiense que realiza análisis de trazas de metales en HF/HCl informó de una contaminación de fondo por Al >0,3 ppb procedente de tanques de sílice fundida.
Tras cambiar a los recipientes de baño ácido TOQUARTZ®, la línea de base de ICP-MS descendió a <0.05 ppb, enabling accurate detection of sub-ppb analytes and improving experimental reproducibility by 92%.
Servicios de personalización TOQUARTZ® para el depósito de limpieza ácida de vidrio de cuarzo
Personalización del diseño
- Dimensiones personalizadas con tolerancias de precisión
- Configuraciones de entrada/salida especializadas para la integración de procesos
- Divisiones internas o cámaras para procesamiento en varias fases
- Bordes o esquinas reforzados para mejorar la integridad estructural
- Espesor de pared personalizado en función de los requisitos térmicos o estructurales
- Funciones de montaje integradas para compatibilidad de equipos
Especificaciones materiales
- Cuarzo estándar de gran pureza (99,99% SiO₂)
- Opciones de cuarzo opaco para aplicaciones sensibles a la luz
- Tratamientos superficiales para mejorar la resistencia química
- Superficies pulidas con precisión para aplicaciones de estanquidad críticas
- Bordes pulidos al fuego para mejorar la resistencia mecánica
- Certificaciones personalizadas de materiales para industrias reguladas
Proceso de desarrollo personalizado
Análisis de requisitos
- El equipo técnico de TOQUARTZ trabaja con usted para comprender sus requisitos específicos de proceso, entorno químico, rangos de temperatura y restricciones dimensionales.
Propuesta de diseño
- Desarrollamos planos técnicos detallados y especificaciones basadas en sus requisitos, a menudo proporcionando múltiples opciones de diseño para su consideración.
Desarrollo de prototipos
- En el caso de diseños complejos o novedosos, podemos fabricar unidades prototipo para probarlas y validarlas en su entorno de proceso antes de la producción a gran escala.
Producción
- Los diseños aprobados pasan a producción con un estricto control de calidad durante todo el proceso de fabricación para garantizar la precisión dimensional y la integridad de los materiales.
Verificación de la calidad
- Cada depósito acabado se somete a una inspección exhaustiva que incluye la verificación dimensional, la inspección visual y los ensayos de materiales exigidos por las especificaciones.
Pautas de uso del tanque de limpieza con ácido de cuarzo
Manipulación e instalación
- Manipular con cuidado para evitar golpes o cambios bruscos de temperatura que puedan causar fracturas.
- Instalar sobre superficies niveladas y estables utilizando los soportes adecuados para distribuir el peso uniformemente.
- Durante el montaje, utilice juntas de PTFE o compatibles para evitar el contacto directo con superficies metálicas.
- Deje al menos 5 mm de espacio libre alrededor del depósito para la dilatación térmica durante los procesos de calentamiento.
- Para las conexiones de entrada/salida, utilice únicamente racores compatibles diseñados para componentes de cuarzo.
Condiciones de funcionamiento
- No supere la temperatura máxima de funcionamiento de 1100°C para uso a largo plazo o de 1300°C para aplicaciones a corto plazo.
- Mantener la temperatura por debajo de 5°C/minuto para evitar el choque térmico.
- Para aplicaciones con calefacción, asegúrese de que la distribución del calor es uniforme para evitar tensiones localizadas.
- Cuando se utilice con soluciones alcalinas, evite el contacto con compuestos de potasio o sodio a altas temperaturas, que pueden reducir significativamente el rendimiento.
- Para una integridad óptima de la junta en aplicaciones de proceso húmedo, verifique que todos los puntos de conexión mantienen las tolerancias especificadas.
Mantenimiento y limpieza
- Después de su uso, enjuague a fondo con agua desionizada para eliminar los residuos químicos.
- Para los contaminantes persistentes, utilice disolventes adecuados seguidos de una limpieza ultrasónica en agua desionizada.
- Inspeccione regularmente en busca de microfisuras o degradación de la superficie, especialmente en los puntos de conexión de fluidos.
- Almacenar en entornos limpios y sin polvo para mantener la integridad de la superficie y evitar la contaminación.
- Para el almacenamiento a largo plazo, cubra las aberturas con materiales limpios de PTFE o polietileno.
¿Necesita asistencia técnica con las cubas de limpieza con ácido de cuarzo?
Por qué asociarse con TOQUARTZ
Ventaja directa de fábrica
Como fabricante directo, podemos suprimir los numerosos eslabones intermedios.
Experiencia en ingeniería
El equipo técnico guía a los clientes desde la selección de materiales hasta la optimización del diseño, traduciendo las especificaciones en resultados.
Fabricación flexible
Gestión de pedidos estándar y personalizados mediante la experiencia en lotes pequeños y el rigor en la creación de prototipos para cumplir los plazos urgentes.
Calidad
Garantía
Validación previa al envío en tres pasos:
1. precisión dimensional,
2. pureza del material ,
3. umbrales de rendimiento
Cadena mundial de suministro
Logística global fiable a centros industriales (prioridad DE/US/JP/KR) con hitos rastreables.
Productos recuperados
Como fabricante especializado con capacidad directa de fábrica, TOQUARTZ proporciona soluciones de cuarzo tanto estándar como personalizadas con soporte de ingeniería durante todo el proceso de especificación e implementación.
PREGUNTAS FRECUENTES
P: ¿Cuál es la temperatura máxima que pueden soportar los tanques de limpieza con ácido de cuarzo?
R: Las cubas de limpieza ácida de cuarzo TOQUARTZ® pueden soportar temperaturas de hasta 1100°C para un funcionamiento continuo a largo plazo y de hasta 1350°C para aplicaciones a corto plazo. La estabilidad térmica garantiza la consistencia dimensional incluso durante los ciclos térmicos, con un bajo coeficiente de dilatación térmica de 5,5×10-⁷/°C.
P: ¿Qué tipos de ácidos son compatibles con sus depósitos de cuarzo?
R: Los depósitos de limpieza de ácidos de cuarzo TOQUARTZ® son compatibles con prácticamente todos los ácidos utilizados en la fabricación de semiconductores y productos fotovoltaicos, incluidos el ácido fluorhídrico (HF), el ácido clorhídrico (HCl), el ácido nítrico (HNO₃), el ácido sulfúrico (H₂SO₄), el ácido fosfórico (H₃PO₄) y diversas mezclas de ácidos. Mantienen su integridad estructural y su pureza incluso tras una exposición prolongada a ácidos concentrados a temperaturas elevadas.
P: ¿Cuál es el grado de pureza del material de cuarzo utilizado en sus tanques de limpieza ácida?
R: Los tanques de limpieza ácida de cuarzo estándar TOQUARTZ® se fabrican con cuarzo de alta pureza que contiene ≥99,99% SiO₂. Este nivel de pureza garantiza una contaminación mínima en procesos críticos de semiconductores y fotovoltaicos. El material tiene unos niveles excepcionalmente bajos de impurezas alcalinas y metálicas, lo que lo hace ideal para aplicaciones en las que el control de la contaminación es crucial para el rendimiento y las prestaciones del proceso.
P: ¿Cómo debo limpiar y mantener los tanques de limpieza con ácido de cuarzo para maximizar su vida útil?
R: Para prolongar al máximo la vida útil de los depósitos de cuarzo para limpieza ácida: 1) Aclárelos a fondo con agua desionizada después de cada uso, 2) En caso de residuos persistentes, utilice disolventes apropiados seguidos de limpieza ultrasónica, 3) Evite el choque térmico manteniendo la velocidad de rampa por debajo de 5°C/minuto, 4) Manipúlelos con cuidado para evitar impactos mecánicos, 5) Almacénelos en entornos limpios con los puertos cubiertos, y 6) Inspeccione periódicamente en busca de microfisuras o degradación de la superficie. Con un mantenimiento adecuado, los depósitos de cuarzo pueden proporcionar años de servicio fiable en entornos exigentes de semiconductores.
P: ¿Qué diferencia hay entre las cubas de cuarzo para limpieza con ácido y las de PTFE o PFA para aplicaciones de semiconductores?
R: Aunque el PTFE y el PFA ofrecen una excelente resistencia química, los tanques de limpieza con ácido de cuarzo ofrecen varias ventajas claras para las aplicaciones de semiconductores: 1) Mayor resistencia a la temperatura (hasta 1100°C frente a ~260°C de los fluoropolímeros), 2) Mejor estabilidad dimensional en ciclos térmicos, 3) Mayor rigidez para mantener geometrías precisas, 4) Mayor transparencia para la supervisión del proceso y 5) Menor generación de partículas y desgasificación. El cuarzo es especialmente ventajoso para los procesos ácidos a alta temperatura habituales en la fabricación de semiconductores avanzados.
Póngase en contacto con nuestro equipo de ingeniería para obtener asesoramiento técnico y precios. Le ayudaremos a seleccionar las especificaciones óptimas para los requisitos de su aplicación.
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