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Kundenspezifischer prozessintegrierter Quarzsäurereinigungstank für Halbleiter- und PV-Anwendungen -TOQUARTZ®
Entwickelt für die Reinigung von Halbleiterwafern, das Ätzen von Photovoltaikzellen und chemische Laboranwendungen, die eine außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit gegenüber HF, HCl und HNO₃ erfordern.
Merkmale des Quarzsäure-Reinigungstanks
Höchste Reinheit
Die Reinheit von 99,99% SiO₂ gewährleistet eine minimale Kontamination in kritischen Halbleiterprozessen. Strenge Qualitätskontrollen und die Verarbeitung im Reinraum minimieren Verunreinigungen und Partikelkontaminationen.
Chemische Beständigkeit
Außergewöhnliche Beständigkeit gegen alle Säuren, einschließlich HF, HCl, HNO₃ und andere aggressive Chemikalien, die bei der Nassbearbeitung von Halbleitern verwendet werden. Kein Materialabbau, selbst nach längerer Einwirkung von konzentrierten Säuren.
Hohe thermische Stabilität
Betriebstemperaturbereich bis zu 1100°C für Langzeitanwendungen und 1300°C für Kurzzeitanwendungen. Niedriger thermischer Ausdehnungskoeffizient (5,5×10-⁷/°C) gewährleistet Dimensionsstabilität bei Temperaturschwankungen.
Optische Transparenz
Hervorragende optische Transparenz (≥93%-Transmission) ermöglicht Prozessüberwachung und visuelle Inspektion während des Betriebs. Ermöglicht die Integration mit optischen Sensoren für die Prozesskontrolle und Automatisierung.
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Geringste ionische Verunreinigung
freigeben
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Stabile SiO₂-Matrix unter thermisch-saurer
Radfahren
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Visuelle Klarheit für
In-situ-Reaktionsüberwachung
Technische Daten des Quarz-Chemie-Reinigungstanks
Technische Daten des Quarzglas-Säurereinigungstanks
| Eigentum | Wert |
| Materialzusammensetzung | Hochreiner Quarz (≥99,99% SiO₂) |
| Dichte | 2,2 g/cm³ |
| Biegefestigkeit | 48 MPa |
| Elastischer Modul | 72 GPa |
| Querkontraktionszahl | 0.14-0.17 |
| Druckfestigkeit | 1100 MPa |
| Biegefestigkeit | 67 MPa |
| Mohs-Härte | 5.5-6.5 |
| Maximale Betriebstemperatur (Langzeit) | 1100°C |
| Maximale Arbeitstemperatur (kurzzeitig) | 1300°C |
| Wärmeleitfähigkeit | 1,4 W/m-K |
| Brechungsindex | 1.4585 |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 5.5×10-⁷/°C |
| Spezifische Resistenz | 7×10⁷ Ω-cm |
| Optische Übertragung (1mm Dicke, 280-780nm) | ≥93% |
Kundenspezifische Abmessungen des Quarzglas-Säurereinigungstanks
TOQUARTZ® ist in der Lage, kundenspezifische Spezifikationen auf der Grundlage der Kundenanforderungen zu erfüllen. Wenden Sie sich an unser Technikteam, um detaillierte Maßangaben und Optionen für kundenspezifische Größen zu erhalten.
Lösung kritischer Herausforderungen mit TOQUARTZ® Quarzsäurebadbehälter
Quarzsäure-Reinigungstanks für die Halbleiterwafer-Verarbeitung
Die wichtigsten Vorteile
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Geringste Freisetzung ionischer Verunreinigungen
TOQUARTZ® Quarz-Tanks Freigabe <0.1 ppb of Na⁺, K⁺, and Al³⁺ ions after 72h HF/HCl exposure at 80°C. -
Keine Zersetzung der Oberfläche bei gemischter Säureeinwirkung
Die Oberflächenrauhigkeit (Ra) bleibt <0.02μm after 96h in HNO₃/HF/HCl mixture at 100°C. -
Stabile SiO₂-Matrix bei Temperatur-Säure-Zyklen
Keine Ausbreitung von Mikrorissen nach 50 Zyklen mit Säureeinwirkung bei 100°C und Abkühlung bei Raumtemperatur beobachtet.
TOQUARTZ®-Lösung
Eine japanische 300-mm-Waferfabrik meldete nach 48 Stunden HF/HCl-Einsatz eine Metallionenkontamination (>0,5 ppb Al³⁺) aus den örtlichen Quarztanks, die zu einem Ertragsverlust von 3,2% Wafern führte.
TOQUARTZ® lieferte Säure-Reinigungsbehälter mit geprüften <0.1 ppb ion leaching (SGS test), reducing wafer surface contamination by 87% and restoring yield to 99.1% within 2 weeks of deployment.
Chemischer Reinigungsbehälter aus Quarz für die Reinigung und Texturierung von PV-Zellen
Die wichtigsten Vorteile
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Keine säurebedingte Oberflächenkorrosion nach 100 Stunden
TOQUARTZ®-Tanks zeigen nach 100 Stunden in 10% HNO₃ bei 90°C keine sichtbare Korrosion. -
Stabil unter alkalischer Texturierung bei 85°C
Kein Abblättern oder Verfärben von SiO₂ nach 72 Stunden in NaOH/KOH-Lösung bei 85°C. -
Erhält den pH-Wert im Säurebad stabil
pH-Drift <0.2 over 48h in HF/HNO₃ mix, ensuring consistent etching rate.
TOQUARTZ®-Lösung
In einer deutschen PV-Modulanlage, die Borosilikat-Tanks verwendet, kam es innerhalb von 24 Stunden zu einer pH-Abweichung im Säurebad von >0,5, was zu einer ungleichmäßigen Texturierung und einem Rückgang der Effizienz von 5%-Zellen führte.
Die TOQUARTZ®-Quarzgefäße hielten den pH-Wert über 48 Stunden innerhalb von ±0,2 stabil, was ein gleichmäßiges Ätzen ermöglichte und die durchschnittliche Zelleffizienz von 18,3% auf 19,1% in drei Produktionschargen erhöhte.
Quarzsäurebad-Behälter für Forschungslabors
Die wichtigsten Vorteile
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Kompatibel mit 98% von Laborsäuren und -lösungsmitteln
TOQUARTZ®-Tanks wurden in mehr als 30 Reagenzien als stabil getestet, darunter HF, Königswasser und Perchlorsäure. -
Visuelle Klarheit für die In-situ-Reaktionsüberwachung
Die ≥93%-Lichttransmission (280-780nm) ermöglicht die Beobachtung von kolorimetrischen Reaktionen in Echtzeit. -
Keine nachweisbare Auslaugung in der Spurenanalyse
<0.05 ppb total leachables after 48h in 10% HCl at 60°C (ICP-MS verified).
TOQUARTZ®-Lösung
Ein kanadisches Universitätslabor, das Spurenmetallanalysen in HF/HCl durchführt, meldete eine Al-Hintergrundkontamination von >0,3 ppb aus Quarzglasbehältern.
Nach der Umstellung auf TOQUARTZ®-Säurebadbehälter fiel die ICP-MS-Basislinie auf <0.05 ppb, enabling accurate detection of sub-ppb analytes and improving experimental reproducibility by 92%.
TOQUARTZ® Anpassungsservice für Quarzglas-Säurereinigungsbehälter
Design-Anpassung
- Kundenspezifische Abmessungen mit Präzisionstoleranzen
- Spezialisierte Einlass-/Auslasskonfigurationen für die Prozessintegration
- Interne Trennwände oder Kammern für die mehrstufige Verarbeitung
- Verstärkte Kanten oder Ecken für verbesserte strukturelle Integrität
- Kundenspezifische Wandstärken aufgrund von thermischen oder strukturellen Anforderungen
- Integrierte Montagefunktionen für Gerätekompatibilität
Material-Spezifikationen
- Hochreiner Standard-Quarz (99,99% SiO₂)
- Opake Quarzoptionen für lichtempfindliche Anwendungen
- Oberflächenbehandlungen für verbesserte chemische Beständigkeit
- Präzisionspolierte Oberflächen für kritische Dichtungsanwendungen
- Feuerpolierte Kanten für verbesserte mechanische Festigkeit
- Individuelle Materialzertifizierungen für regulierte Industrien
Kundenspezifischer Entwicklungsprozess
Anforderungsanalyse
- Das technische Team von TOQUARTZ arbeitet mit Ihnen zusammen, um Ihre spezifischen Prozessanforderungen, chemischen Umgebungen, Temperaturbereiche und Abmessungsbeschränkungen zu verstehen.
Vorschlag für die Gestaltung
- Wir entwickeln detaillierte technische Zeichnungen und Spezifikationen auf der Grundlage Ihrer Anforderungen, wobei wir oft mehrere Designoptionen in Betracht ziehen.
Entwicklung von Prototypen
- Für komplexe oder neuartige Konstruktionen können wir Prototypen herstellen, die in Ihrer Prozessumgebung getestet und validiert werden, bevor sie in Serie gehen.
Produktion
- Genehmigte Entwürfe gehen in die Produktion, wobei während des gesamten Herstellungsprozesses strenge Qualitätskontrollen durchgeführt werden, um Maßgenauigkeit und Materialintegrität zu gewährleisten.
Überprüfung der Qualität
- Jeder fertige Tank wird einer umfassenden Inspektion unterzogen, die eine Überprüfung der Abmessungen, eine visuelle Inspektion und die in den Spezifikationen geforderten Materialprüfungen umfasst.
Richtlinien für die Verwendung von Quarzsäure-Reinigungstanks
Handhabung und Installation
- Gehen Sie vorsichtig vor, um Stöße oder plötzliche Temperaturschwankungen zu vermeiden, die zu Brüchen führen können.
- Stellen Sie das Gerät auf einer ebenen, stabilen Fläche auf und verwenden Sie geeignete Halterungen, um das Gewicht gleichmäßig zu verteilen.
- Verwenden Sie bei der Montage PTFE- oder kompatible Dichtungen, um einen direkten Kontakt mit Metalloberflächen zu vermeiden.
- Lassen Sie um den Tank herum mindestens 5 mm Spielraum für die Wärmeausdehnung bei erhitzten Prozessen.
- Verwenden Sie für Einlass- und Auslassanschlüsse nur kompatible, für Quarzkomponenten vorgesehene Fittings.
Betriebsbedingungen
- Überschreiten Sie nicht die maximale Betriebstemperatur von 1100°C für Langzeitanwendungen oder 1300°C für Kurzzeitanwendungen.
- Halten Sie die Temperaturanstiegsgeschwindigkeit unter 5°C/Minute, um einen Temperaturschock zu vermeiden.
- Bei beheizten Anwendungen ist auf eine gleichmäßige Wärmeverteilung zu achten, um lokale Spannungen zu vermeiden.
- Bei der Verwendung mit alkalischen Lösungen ist der Kontakt mit Kalium- oder Natriumverbindungen bei hohen Temperaturen zu vermeiden, da diese die Leistung erheblich verringern können.
- Um eine optimale Dichtigkeit bei Nassanwendungen zu gewährleisten, muss sichergestellt werden, dass alle Verbindungspunkte die vorgegebenen Toleranzen einhalten.
Wartung und Reinigung
- Nach Gebrauch gründlich mit entionisiertem Wasser abspülen, um Chemikalienreste zu entfernen.
- Für hartnäckige Verunreinigungen verwenden Sie geeignete Lösungsmittel, gefolgt von einer Ultraschallreinigung in entionisiertem Wasser.
- Prüfen Sie regelmäßig auf Mikrorisse oder Oberflächenverschlechterung, insbesondere an den Verbindungsstellen der Flüssigkeiten.
- In sauberen, staubfreien Umgebungen lagern, um die Unversehrtheit der Oberfläche zu erhalten und Verunreinigungen zu vermeiden.
- Bei langfristiger Lagerung die Öffnungen mit sauberem PTFE- oder Polyethylenmaterial abdecken.
Benötigen Sie technische Unterstützung bei Quarzsäure-Reinigungstanks?
Warum eine Partnerschaft mit TOQUARTZ
Vorteil der direkten Fabrik
Als direkter Hersteller können wir die zahlreichen Zwischenstufen ausschalten.
Technische Kompetenz
Das technische Team begleitet die Kunden von der Materialauswahl bis zur Designoptimierung und setzt die Spezifikationen in Ergebnisse um.
Flexible Fertigung
Bearbeitung von Standard- und kundenspezifischen Aufträgen mit Hilfe von Kleinserien und Prototyping, um dringende Fristen einzuhalten.
Qualität
Versicherung
3-Stufen-Validierung vor dem Versand:
1. Maßhaltigkeit,
2. Materialreinheit ,
3. Leistungsschwellen
Globale Lieferkette
Zuverlässige globale Logistik zu den industriellen Zentren (Priorität DE/US/JP/KR) mit nachvollziehbaren Meilensteinen.
Wiederverwertete Produkte
Als spezialisierter Hersteller mit direkten Fertigungsmöglichkeiten bietet TOQUARTZ sowohl Standard- als auch kundenspezifische Quarzlösungen mit technischer Unterstützung während des gesamten Spezifikations- und Implementierungsprozesses.
FAQ
F: Wie hoch ist die maximale Temperatur, die Quarzsäure-Reinigungstanks aushalten können?
A: TOQUARTZ®-Quarzsäure-Reinigungsbehälter können Temperaturen von bis zu 1100 °C für den langfristigen Dauerbetrieb und bis zu 1350 °C für kurzfristige Anwendungen standhalten. Die thermische Stabilität sorgt für Maßhaltigkeit auch bei Temperaturwechseln, mit einem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten von 5,5×10-⁷/°C.
F: Welche Arten von Säuren sind mit Ihren Quarztanks kompatibel?
A: TOQUARTZ®-Quarzsäure-Reinigungstanks sind mit praktisch allen Säuren kompatibel, die in der Halbleiter- und Photovoltaikfertigung verwendet werden, darunter Flusssäure (HF), Salzsäure (HCl), Salpetersäure (HNO₃), Schwefelsäure (H₂SO₄), Phosphorsäure (H₃PO₄) und verschiedene Säuregemische. Sie behalten ihre strukturelle Integrität und Reinheit auch nach längerer Einwirkung von konzentrierten Säuren bei hohen Temperaturen.
F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad des Quarzmaterials, das in Ihren Säurereinigungstanks verwendet wird?
A: TOQUARTZ® Standard-Quarzsäure-Reinigungstanks werden aus hochreinem Quarz hergestellt, der ≥99,99% SiO₂ enthält. Dieser Reinheitsgrad gewährleistet eine minimale Kontamination in kritischen Halbleiter- und Photovoltaikprozessen. Das Material weist einen außergewöhnlich niedrigen Gehalt an alkalischen und metallischen Verunreinigungen auf und eignet sich daher ideal für Anwendungen, bei denen die Kontrolle der Verunreinigung für die Prozessausbeute und -leistung entscheidend ist.
F: Wie sollte ich Quarzsäure-Reinigungstanks reinigen und warten, um die Lebensdauer zu maximieren?
A: Um die Lebensdauer von Quarzsäure-Reinigungsbehältern zu maximieren: 1) Nach jedem Gebrauch gründlich mit DI-Wasser spülen, 2) Bei hartnäckigen Rückständen geeignete Lösungsmittel verwenden und anschließend mit Ultraschall reinigen, 3) Wärmeschocks vermeiden, indem die Rampenraten unter 5°C/Minute gehalten werden, 4) Vorsichtig handhaben, um mechanische Stöße zu vermeiden, 5) in sauberen Umgebungen mit abgedeckten Öffnungen lagern und 6) regelmäßig auf Mikrorisse oder Oberflächenverschlechterung untersuchen. Bei ordnungsgemäßer Wartung können Quarzbehälter jahrelang zuverlässig in anspruchsvollen Halbleiterumgebungen eingesetzt werden.
F: Wie sind Quarzsäure-Reinigungstanks im Vergleich zu PTFE- oder PFA-Tanks für Halbleiteranwendungen?
A: Während PTFE und PFA eine ausgezeichnete chemische Beständigkeit aufweisen, bieten Quarzsäure-Reinigungstanks mehrere deutliche Vorteile für Halbleiteranwendungen: 1) Hervorragende Temperaturbeständigkeit (bis zu 1100°C im Vergleich zu ~260°C bei Fluorpolymeren), 2) Bessere Formbeständigkeit bei Temperaturwechseln, 3) Höhere Steifigkeit zur Beibehaltung präziser Geometrien, 4) Größere Transparenz zur Prozessüberwachung und 5) Geringere Partikelbildung und Ausgasung. Quarz ist besonders vorteilhaft für saure Hochtemperaturprozesse, wie sie in der modernen Halbleiterfertigung üblich sind.
Wenden Sie sich für technische Beratung und Preisgestaltung an unser Ingenieurteam. Wir helfen Ihnen bei der Auswahl der optimalen Spezifikationen für Ihre Anwendungsanforderungen.
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