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Frascos de quartzo de grau de engenharia personalizado para sistemas CVD/ALD -TOQUARTZ®.
Características dos frascos de quartzo
As garrafas de fonte de quartzo de alta pureza TOQUARTZ® são projetadas especificamente para aplicações que exigem o fornecimento preciso de precursores em deposição de vapor químico (CVD), deposição de camada atômica (ALD) e processos relacionados. Cada uma delas é fabricada com material de quartzo de qualidade superior para garantir um desempenho consistente em ambientes exigentes.
Propriedades do material
- Material de quartzo de alta pureza (até 99,995% SiO₂) para contaminação mínima em aplicações de pesquisa de semicondutores e materiais
- Resistência ao choque térmico, capaz de suportar mudanças rápidas de temperatura sem rachaduras
- Resistência química a ácidos, álcalis, sais fundidos e gases contendo flúor usados em processos de deposição
- Estabilidade em alta temperatura de até 1200°C, ideal para aplicações de CVD de alta temperatura e síntese de materiais
Recursos de design
- Tubos de entrada e saída projetados com precisão para controlar o fluxo de gás e a formação de bolhas em sistemas de fornecimento de precursores
- O design altamente transparente permite o fácil monitoramento visual dos níveis de precursores e da ação de borbulhamento durante a operação
- Disponível com acessórios personalizados, incluindo juntas de vidro fosco, acessórios de compressão ou conexões especializadas para integração com sistemas existentes
- Precisão dimensional de ±0,1 mm para componentes críticos, garantindo desempenho confiável e compatibilidade do sistema
- 99,99% SiO₂ Pureza
- Resistência química
- Juntas de precisão
Especificações técnicas do frasco de fonte de quartzo
Propriedades físicas
| Parâmetro | Valor / Descrição |
| Densidade | 2,2 g/cm³ - Garante estabilidade mecânica sob vácuo e ciclos térmicos |
| Temperatura máxima de trabalho | 1200°C - Adequado para vaporização de precursores em alta temperatura em CVD/MOCVD |
| Resistência a choques térmicos | ∆T ≥ 900°C - Suporta aquecimento/resfriamento rápido em ciclos pulsados de ALD |
| Coeficiente de expansão térmica | 5,5 × 10-⁷ /°C (20-800°C) - Minimiza o estresse durante o aumento da temperatura |
| Condutividade térmica | 1,4 W/m-K (a 20°C) - Oferece suporte à distribuição uniforme de calor nas zonas precursoras |
Propriedades químicas
| Parâmetro | Valor / Descrição |
| Conteúdo de SiO₂ | ≥99.99% - Evita a contaminação por metais em processos de semicondutores de sub-10nm |
| Total de elementos-traço | <10 ppm - Verificado pelo GDMS para ambientes de deposição ultralimpos |
| Resistência a ácidos | Excelente (exceto HF) - Compatível com precursores de haleto como TiCl₄, WF₆ |
| Resistência a álcalis | Bom abaixo de 600°C - Adequado para manuseio de precursores sensíveis à base |
Propriedades ópticas
| Parâmetro | Valor / Descrição |
| Índice de refração | 1,458 (a 589,3 nm) - Permite o monitoramento visual dos níveis de precursores |
| Transmissão de UV | >80% (200-2000 nm) - Suporta inspeção óptica e diagnósticos de processos baseados em UV |
| Transmissão de IR | Bom até 3,5 μm - Permite aquecimento e monitoramento por infravermelho em sistemas MOCVD |
TOQUARTZ® Solucionando desafios de laboratório com frascos de quartzo
Frascos de fonte de quartzo para fabricação de semicondutores
Principais vantagens
-
Teor ultrabaixo de traços de metais
Total de impurezas metálicas < 5 ppb verificado pelo GDMS, garantindo que não haja contaminação iônica nos processos de nó de 7 nm. -
Estabilidade dimensional em altas temperaturas
Desvio dimensional < 0,03 mm após o recozimento a 1000°C por 24 horas, essencial para a uniformidade epitaxial. -
Compatibilidade com gases halogenados
Resistência comprovada a TiCl₄, WF₆ e BCl₃, sem devitrificação da superfície após 200 ciclos.
Solução TOQUARTZ
Um OEM de semicondutores com sede nos EUA enfrentou uma perda de rendimento de 12% devido à contaminação do precursor em CVD baseado em TiCl₄. A TOQUARTZ forneceu garrafas de fonte de quartzo com <5 ppb impurity levels and halide-resistant polish. Yield improved by 9.4%, saving $27,000/month in wafer scrap.
Frascos de Precursor de Quartzo Fundido para Pesquisa e Desenvolvimento
Principais vantagens
-
Rápida entrega de protótipos
Os borbulhadores de quartzo personalizados são entregues em 12 dias úteis, desde a aprovação do desenho até o envio. -
Fabricação de geometria complexa
Obteve tolerância de ±0,1 mm em tubos de entrada dobrados em 3D com espessura de parede de 2,5 mm. -
Sem MOQ para projetos personalizados
Suporte a pedidos de 1 peça para 7 configurações diferentes de precursores ALD em um único lote.
Solução TOQUARTZ
Um laboratório universitário europeu precisava de 3 borbulhadores de quartzo exclusivos para ALD de novos materiais 2D. A TOQUARTZ entregou todos os 3 projetos em 2 semanas, permitindo que a equipe cumprisse um marco de concessão do Horizon 2020 e garantisse 120.000 euros em financiamento contínuo.
Frascos de vidro de quartzo para produção de materiais avançados
Principais vantagens
-
Repetibilidade dimensional de lote para lote
Variação do OD < ±0,05 mm em uma produção de 200 unidades, verificada por micrometria a laser. -
Vida útil prolongada de exposição a produtos químicos
Manteve a integridade estrutural após 500 horas de exposição ao POCl₃ a 950°C. -
Envio 24 horas para SKUs padrão
Os modelos de 500 ml e 1500 ml são enviados em 24 horas, reduzindo o risco de paralisação da linha.
Solução TOQUARTZ
Um fornecedor coreano de materiais OLED teve um tempo de inatividade de 6 horas/mês devido à falha do borbulhador na entrega de POCl₃. A TOQUARTZ substituiu suas garrafas de origem por unidades de quartzo de alta durabilidade, aumentando a vida útil em 3,2 vezes e reduzindo o tempo de inatividade em 83%, economizando $18.000/mês em perda de produção.
Serviços de personalização TOQUARTZ® para frascos de quartzo
Consulta de design
Nossa equipe de engenharia analisa os requisitos do seu processo e fornece desenhos técnicos para frascos de quartzo personalizados. Podemos modificar projetos existentes ou criar configurações totalmente novas para otimizar o fornecimento de precursores.
Desenvolvimento de protótipos
Produzimos protótipos funcionais de frascos de fonte de quartzo personalizados para entrega de precursores ALD com tempos de resposta rápidos. Teste seus conceitos de design antes de se comprometer com as quantidades de produção, com entrega típica de protótipos em 2 a 3 semanas.
Fabricação de produção
Após a finalização do seu projeto, fazemos a transição para a fabricação da produção com rigoroso controle de qualidade. Mantemos especificações consistentes em todos os lotes e oferecemos volumes de produção flexíveis.
Opções de personalização
- Capacidades personalizadas de 500 ml a 5.000 ml
- Projetos especializados de tubos de entrada para borbulhamento otimizado
- Acessórios personalizados compatíveis com seu sistema existente
- Configurações de várias câmaras para processos complexos
- Espessura de parede modificada para perfis térmicos específicos
- Integração com sistemas de controle de temperatura
Diretrizes de uso das garrafas de fonte de quartzo
O manuseio, a instalação e a manutenção adequados dos frascos de quartzo são essenciais para garantir o desempenho ideal e a vida útil prolongada nos processos de CVD, ALD e outros processos de deposição. As diretrizes a seguir o ajudarão a maximizar o valor de seus componentes de fornecimento de precursores de quartzo.
Manuseio e instalação
- Sempre use luvas limpas e sem pó ao manusear frascos de fonte de quartzo para evitar contaminação
- Inspecione todas as conexões quanto ao ajuste adequado antes de instalá-las em seu sistema
- Ao apertar as conexões, aplique pressão uniforme e evite apertar demais, pois isso poderia rachar o quartzo
- Deixe uma folga adequada ao redor da garrafa para a expansão térmica durante os ciclos de aquecimento
Operação e manutenção
- Implemente ciclos graduais de aquecimento e resfriamento para evitar choque térmico (taxa recomendada): <5°C/min)
- Para a limpeza, use somente solventes e ácidos aprovados que sejam compatíveis com o quartzo de alta pureza
- Inspecione regularmente se há desvitrificação (clareamento do quartzo), o que indica a necessidade de substituição
- Armazene as garrafas vazias em um ambiente limpo e seco, longe de fontes de álcalis
2. Ao encher, mantenha um espaço livre mínimo de 1/3 para permitir o borbulhamento e a expansão adequados do gás
3. Para precursores sensíveis à temperatura, resfrie previamente o frasco antes de enchê-lo
4. Após o carregamento, purgue o sistema com gás inerte antes do aquecimento para remover qualquer umidade ou oxigênio
5. Siga as diretrizes de manuseio específicas do precursor para evitar a decomposição prematura ou a contaminação
Pronto para otimizar seu sistema de entrega de precursores?
A TOQUARTZ® oferece soluções de alta qualidade com suporte de engenharia e tempos de resposta rápidos.
Por que fazer parceria com a TOQUARTZ?
Vantagem da fábrica direta
Como fabricante direto, podemos eliminar os inúmeros elos intermediários.
Especialização em engenharia
A equipe técnica orienta os clientes desde a seleção do material até a otimização do projeto, traduzindo as especificações em produtos.
Fabricação flexível
Atendimento de pedidos padrão e personalizados por meio de experiência em pequenos lotes e rigor na criação de protótipos para cumprir prazos urgentes.
Qualidade
Garantia
Validação em três etapas antes da remessa:
1. precisão dimensional,
2. pureza do material,
3. limites de desempenho
Cadeia de suprimentos global
Logística global confiável para centros industriais (prioridade DE/US/JP/KR) com marcos rastreáveis.
Produtos liberados
Como um fabricante especializado com recursos de fábrica direta, a TOQUARTZ fornece soluções de quartzo padrão e personalizadas com suporte de engenharia durante todo o processo de especificação e implementação.
PERGUNTAS FREQUENTES
P: Para que serve uma garrafa de fonte de quartzo em CVD?
R: Um frasco de fonte de quartzo em CVD (Chemical Vapor Deposition) é usado para conter e fornecer precursores químicos que formam o filme depositado. A construção de quartzo de alta pureza evita a contaminação e, ao mesmo tempo, permite a evaporação controlada ou o borbulhamento do gás de transporte através do precursor para transportá-lo para a câmara de reação.
P: Os frascos de fonte de quartzo podem ser usados com precursores corrosivos?
R: Sim, o quartzo de alta pureza oferece excelente resistência à maioria dos produtos químicos corrosivos, inclusive ácidos fortes (exceto HF), bases abaixo de 600°C e compostos de halogênio comumente usados como precursores. Essa estabilidade química evita a contaminação do precursor e garante uma qualidade de deposição consistente.
P: Que temperatura as garrafas de fonte de quartzo podem suportar?
R: Os frascos de fonte de quartzo TOQUARTZ® podem suportar temperaturas de operação contínua de até 1.200°C. O material mantém sua integridade estrutural e inércia química nessas temperaturas, o que o torna ideal para aplicações de fornecimento de precursores em alta temperatura nos processos CVD e ALD.
P: Os frascos de fonte de quartzo podem ser usados com precursores sólidos?
R: Sim, os frascos de fonte de quartzo podem ser projetados especificamente para precursores sólidos. Esses projetos normalmente apresentam aberturas mais amplas para carregamento, zonas de aquecimento especializadas para controlar a sublimação e caminhos de fluxo de gás projetados para transportar o precursor sublimado de forma eficiente para a câmara de reação.
P: Os frascos de fonte de quartzo personalizados podem ser projetados para sistemas ALD específicos?
R: Sim, a TOQUARTZ® é especializada em projetos personalizados de frascos de quartzo para fornecimento de precursores ALD que correspondem às especificações exatas do sistema. Podemos criar configurações de entrada personalizadas, sistemas de distribuição de gás, zonas de aquecimento e tipos de conexão para otimizar o fornecimento de precursores para seus requisitos específicos do processo ALD.
Entre em contato com nossa equipe de engenharia para obter consultoria técnica e preços. Nós o ajudaremos a selecionar as especificações ideais para os requisitos de sua aplicação.
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